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科研实验专用氧化铬靶材Cr2O3氧化镓靶材Ga2O3电子束镀膜蒸发料
产品介绍
氧化铬(Cr2O3)为浅绿至深绿色细小六方结晶,灼热时变棕色,冷后仍变为绿色,结晶体极硬,极稳定,即使在红热下通入氢气亦无变化,微溶于酸类和碱类,几乎不溶于水、有刺激性;与许多二价金属的氧化物一起加热至高温能生成尖晶石型化合物。主要用于冶炼金属铬和碳化铬。用作搪瓷、陶瓷、人造革、建筑材料的着色剂、有机化学合成的催化剂、耐晒涂料、研磨材料、绿色抛光膏专用油墨。亦用于生产高铬砖、铬刚玉砖等耐火材料。
产品参数
中文名 氧化铬 化学式 Cr2O3 密度 5.21g/cm3
分子量 151.99 熔点 2435℃ 沸点 4000℃
纯度 99.99%
产品介绍
氧化镓(Ga2O3)别名是三氧化二镓,是一种宽禁带半导体,Eg=4.9eV;不溶于水,微溶于热酸或碱溶液,易溶于碱金属氢氧化物和稀无机酸;有α,β两种变体,α型为白色菱形六面体,熔点:1900℃(在600℃时转化为β型)。用作高纯分析试剂、用于电子工业半导体材料制备。它是一种透明的氧化物半导体材料,在光电子器件方面有广阔的应用前景 ,被用作于Ga基半导体材料的绝缘层,以及紫外线滤光片。
产品参数
中文名 氧化镓 分子式 Ga2O3
分子量 187.44 熔点 1740℃
密度 5.88g/ml 纯度 99.99%
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服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库