金属锗靶材 Ge靶材 磁控溅射

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商品详细描述

 金属锗靶材 Ge靶材  磁控溅射靶材  电子镀膜蒸发料

 纯度:99.99%


中文名

水溶性
不溶于水
分子量
 72.61
原子序数 
32
熔    点
938.25℃
沸    点
2830℃


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