高纯硅 靶材 Si靶材 磁控溅射

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商品详细描述

   高纯硅 靶材 Si靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料

   纯度:99.999%

中文名
 硅
原子量
28.0855
化学物质登录号
7440-21-3
密度
2.33g/cm?(18℃)
熔点
1687K(1414℃)
沸点
3173K(2900℃)

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