厂商 :北京宏昊净化科技有限公司
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- 微生物实验室
- GMP无尘车间
- 食品厂洁净厂房
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商品详细描述
光电光学行业车间净洁无尘车间温湿度标准::
光电光学制品无尘车间一般适用于电子仪器仪表、计算机、半导体厂、汽车工业、航天工业、光刻、微机制造等行业,除了要空气洁净度以外,还要保证达到除静电的要求。
温湿度要求:温度一般为24+2℃,相对湿度为55+5%100级及1万级属无菌室相对湿度:易吸潮药品45% 一50%(夏季),片剂等固体制剂50% ~55%,水针及口服液55% ~65% 。
洁净无尘车间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。
光电光学制品无尘车间一般适用于电子仪器仪表、计算机、半导体厂、汽车工业、航天工业、光刻、微机制造等行业,除了要空气洁净度以外,还要保证达到除静电的要求。
温湿度要求:温度一般为24+2℃,相对湿度为55+5%100级及1万级属无菌室相对湿度:易吸潮药品45% 一50%(夏季),片剂等固体制剂50% ~55%,水针及口服液55% ~65% 。
洁净无尘车间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。
湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。
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