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等离子清洗工艺流程图
产品技术规格介绍
NT-60-PSP中型等离子清洗机规格
主要技术参数：
1) 整机外形尺寸（约）: 900W×1700H×1000D（mm） 外观喷塑处理；
2) 反应仓尺寸： W450mm×H300mm×D450mm；
3) 电源：主系统电源: 380×(1±10%)V(AC) 50Hz～60Hz 三相五线
4) 等离子体频率：13.56MHz；
5) 射频电源功率：（0～600）W连续可调；
6) 设备功率：≤3kW
7) 控制方式：采用包括触摸屏人机界面的PLC控制，操作方式包括自动模式和手动模式。在自动模式下将不同工艺参数按照配方方式管理，可同时存储100组不同的配方。使用时只需要将相应配方号调出即可。设备参数分级管理，设备操作员、工艺人员、维护人员使用不同口令管理不同参数，提高设备安全性。手动模式用于实验工艺以及设备维护维修。
8) MFC质量流量计控制（标准配置2路）
9) 气体流量：(0～200)ml/min （标准气压,0℃）
10) 工作气体(氧、氩等)接口压力：≤0.45MPa
11) 压缩空气（启动气动角阀）接口压力：0.45Mpa
12) 净化冷却气体（氮气）接口压力：0.45MPa
13) 设备工作节拍：单次清洗时间≤6min（反应时间180S左右）
14) 工作真空度：10～150Pa
反应仓：
1) 反应仓材质：采用高纯度304不锈钢定制，缓解氧化生锈现象；
2) 电极板（托盘）材质：采用铝合金或高纯度304不锈钢定制，缓解氧化生锈现象；
3) 反应仓后部安装有铜电极座，电极座分布多个螺钉锁定接口，水平电极板通过该接口锁定，牢固可靠，更有助于射频源的稳定输出。
4) 仓体左右两侧安装有侧托，用于支撑电极板。
5) 清洗对象的篮具置于电极板上，电极板通过插头与铜电极座相连，插入的电极板方向决定了该电极板为阳或为阴。
6) 本设备提供的清洗模式为直接等离子体模式。直接等离子体模式为阳、阴电极相间放置。
7) 电极可以同时安放2组~4组任意组合。电极有效面积为380×310 (mm)，电极间距为2.5（cm）可调。
8) 反应仓真空平衡方面做了改进，平衡阀能够快速解压（5~10秒内），避免了长时间等待平衡时间，提高了生产效率。
真空泵：
1） 我们推荐使用PUDEE油泵PDV30此泵优点：风冷，抽速快，抗氧化，耐腐蚀，维护成本低，可自行缓解温度过高的散热体系，无需水冷。完全解决了油泵易氧化的问题。
2） 耗电低，噪音小，使用寿命长。
3） 泵体内置于机柜内部，使机器紧凑，占地面积小
自动控制系统：
采用PLC进行全程控制，性能稳定，功能全面，人机界面友好，所有工艺参数，工艺过程实时监控，并显示运行状态、报警记录、工艺曲线记录和工作时间记录，权限等级，密码管理等，方便维护保养。
射频电源：
1） 射频电源为专业满足在半导体工艺的高频驱动等离子系统的性能要求而采用的进口固态半导体芯片的射频电源。电源功率充足500w应用领域包括：刻蚀、RIE、平行板、ICP、射频溅射、CVD和PVD等工业领域。其技术确保了超稳定的输出，此稳定技术使功率放大性能得以优化并降低由等离子阻抗波动造成的功率增益变化。
2） 通过编码器和软键输入实现Local控制
3） 标准接口和A/D控制
4） 在全控制和可编程微处理器作用下，可激活前面的控制面板
5） 控制电路确保了在高VSWR条件下的连贯性
相比业界同类产品，我公司产品除以上重要组件具备优势以外，无论从其外观设计到操作程序设计，均贯穿了先进、卓越和人性化的理念。设备的清洗时间、洁净压力、射频功率、工艺气体流量设定可调，一键完成全自动工艺，实时故障报警、非法操作提示、清洗结束提示等。自动提醒系统维护、更换真空泵油等，避免机器过载、过老化情形下工作，延长使用寿命。
场地要求：
电 源：三相五线 独立接地，接地电阻≤2Ω。应使用截面积4mm2以上的接地铜线（建议使用独立接地体，接地电阻必须≤2Ω。）将设备接至PE。
气 源：氮气 0.45MPa 其它工作气体(氧、氩、氢、氦等)：≤ 0.45MPa
压缩空气：0.5Mpa
真空泵排放气管：软管，管径（内径）φ25mm。建议将排气管接至室外，并且在排气管路上设置防止水、油流回的装置。
场地温度：≤40℃
相对湿度：RH（35-65）%
产品验收标准
产品验收以技术方案中的主要技术参数中的14项作为验收标准，验收报告以此作为基准出具验收表格，方案中的其他各项均应符合实际的机器配给情况。
咨询订购热线：0769-38834526
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