厂商 :临沂研创新材料科技有限公司
山东 临沂市- 主营产品:
- 高纯金属单质合金靶材
- 高纯陶瓷溅射靶材
- 高纯金属单质颗粒块
临沂研创新材料科技有限公司
名 称:二氧化铪
应用领域:UV增透膜,干涉膜
临沂研创新材料科技有限公司高品质单质金属靶材 合金靶材 陶瓷溅射靶材 及熔炼添加镀膜材料如下
合金靶材:钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝 V-Al 、 铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。
陶瓷靶材
熔 点:2812℃
符 号:HfO2
原子量:210.49
密 度:9.68g/cm3
纯 度:4N
产品规格
状态
纯度
尺寸
包装
颗粒(黑色)
4N
1-3mm或压片状
100g,500g,1kg
颗粒(白色)
4N
1-3mm或压片状
100g,500g,1kg
粉末
4N
200目
100g、250g、1kg
靶材
4N
Φ50.8、Φ76.2、Φ101.6
真空包装
产品优点
蒸发压力:在2678℃时1Pa;在2875℃时10Pa
线膨胀系数:5.6×10-6/K
溶解度:不溶解于水
薄膜特性:透光范围~220~12000nm;折射率(250nm)~2.15 (500nm)~2
蒸发条件:用电子枪,氧分压~1~2×10-2Pa。蒸发温度~2600~2800℃,基片温度~250℃,蒸发速率2nm/s
ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶,、二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶,五氧化二钽,五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、等陶瓷靶材。产品通过各种方法(磁控溅射、真空镀等)应用真空镀膜的各种领域:科学研究,航天航空,汽车,微电子,集成电路产业,光源,光学,装饰,平面显示器产业,信息存储产业,数据存储等等。
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