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真空鍍膜技術中經常使用的方法主要有:蒸發鍍膜(包括電弧蒸發,電子槍蒸發,電阻絲蒸發等);溅射鍍膜(包括直流磁控溅射,中頻磁溅射,射頻溅射等技術),這些方法統稱為物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition),簡稱PVD 。與之相對應的化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition) 簡稱為 CVD 技術。
真空鍍膜是在真空中把真空中的鈦,金,石墨,水晶之類的金屬或非金屬,氣體等材料利用溅射,蒸發,等離子體等技術,在基材上開成薄膜的一種表面處理過程。與傳統化學鍍膜方法相比,真空鍍膜有很多的优點:如對環境無汚染,是綠色環保工藝,對操作者無傷害,鍍層牢固,膜層致密性好,均勻抗腐蝕性強及耐磨性高!
真空鍍膜技術中經常使用的方法主要有:蒸發鍍膜(包括電弧蒸發,電子槍蒸發,電阻絲蒸發等);溅射鍍膜(包括直流磁控溅射,中頻磁溅射,射頻溅射等技術),這些方法統稱為物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition),簡稱PVD 。與之相對應的化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition) 簡稱為 CVD 技術。
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