高纯锗靶材 锗片 锗颗粒 锗粉

学符号：Ge  

原 子 量：72.61

折 射 率（波长/nm）：4.4（2000nm）

熔    点：937℃

沸    点：2830℃

密    度：5.35g/cm3

蒸发方式：电子束，石墨舟

坩    埚： Al2O3,石英

透明范围/nm:1700-100000

外    观：银灰色晶体

在10-4Torr蒸发温度：1167℃

溶 解 于：王水，不与水作用，

莫氏硬度：6.0-6.5

薄膜的机械和化学性质：由BE源得极好膜层

性    能：室温下，晶态锗性脆，可塑性很小；锗的化学性质稳定

高纯锗的优点：具有高的折射指数、低吸收、低色散、容易加工、有良好的机械强度、不吸潮等

应    用：红外膜

用    途：广泛应用于红外光学器件、电子工业、光导纤维、医学、冶金、能源和太阳能电池

研创新材供应高纯锗颗粒，高纯锗靶材 高纯锗粉

二、主要产品

1、锗　颗粒　99.9999%

常规尺寸：99.999%-99.9999% 锗条

? ? ? ? ? 99.999% 2-5mm圆柱形颗粒；

? ?? ? ? ?99.999%-99.9999% 1-6mm不规则颗粒；尺寸可定做

用途：热蒸镀、电子束蒸镀、熔炼等

2、锗　靶材　99.999%

常规尺寸：50.8*3mm；76.2*3mm；101.6*4mm；尺寸可定做
用途：磁控溅射?镀膜

临沂研创新材料科技有限公司为您长期供应： 高纯锗靶 Ge ， 高纯金属，高纯靶材，以及靶的相关产品。铝靶 Al ，银靶Ag ，金靶 Au ，钴靶 Co ，铬靶 Cr ，铜靶 Cu ，镍靶 Ni ，钛靶 Ti ，锌靶 Zn ，镁靶 Mg ，铌靶 Nb ，锡靶 Sn ，铟靶 In，铁靶 Fe ，锆靶 Zr ，铂靶 Pt ， 钽靶 Ta ， 锗靶 Ge ，硅靶 Si ，钨靶 W ，铪靶 Hf ，钆靶 Gd ，钐靶 Sm ，镝靶 Dy ，铈靶 Ce ，钇靶 Y ，镧靶 La ，铼靶 Re ，钌靶 Ru ，钯靶 Pd ，铑靶 Rh ，铋靶 Bi ，钛铝 Ti-Al ，铝硅 Al-Si ，铝铜 Al-Cu ，铝钛 Al-Ti ，银铜 Ag-Cu ，铝镁 Al-Mg ，钴铁硼 Co-Fe-B ，铜铟镓 Cu-In-Ga ，铁锰 Fe-Mn ，铟锡 In-Sn ，钴铁 Co-Fe ，镍钴 Ni-Co ，镍铁 Ni-Fe ，镍铬 Ni-Cr ，镍锆 Ni-Zr ，镍铝 Ni-Al ，镍铜 Ni-Cu ，镍钒 Ni-V ，钨钛 W-Ti ，锌铝 Zn-Al ，铝钛硼 Al-Ti-B ，铝钪 Al-Sc ，钒铝铁 V-Al-Fe ，铜锡 Cu-Sn ，锆铝 Zr-Al ，钒铝 V-Al ，硼铁 B-Fe ，铌锆 Nb-Zr等。 

陶瓷靶材：氮化硅靶 Si3N4 ，氮化铝靶 AIN ，氮化硼靶 BN ，氮化铬靶 CrN ，氮化锆靶 ZrN ，氮化钛靶 TiN ，碲化镉靶 CdTe ，二硅化钼靶 MoSi2 ，二硫化钼 MoS2 ，二硼化锆靶 ZrB2 ，二硼化钛靶 Ti B 2 ，二氧化锆靶 ZrO2 ，二氧化硅靶SiO2 ，二氧化锰 MnO2 ，二氧化铈靶 CeO2 ，二氧化钛靶 TiO2 ，二氧化锡靶 SnO2 ，氟化钡靶 BaF2 ，氟化钙靶 CaF2 ，氟化铝靶 AlF3 ，氟化镁靶 MgF2 ，氟化铈靶 CeF2 ，硫化镉靶 CdS ，硫化亚铜 Cu2S ，硫化锌靶 ZnS ，硼靶 B ，硼化铪靶 HfB2 ，三氧化二铬靶 Cr2O3 ，三氧化二锰 Mn2O3 ，三氧化钨靶 WO3 ，钛酸钡靶 BaTiO3 ， 钛酸镧 靶 LaTiO3 ，   钛酸镨靶 PrTiO3 ，石墨靶 C ，碳化锆靶 ZrC ，碳化铬靶 Cr3C2 ，碳化硅靶 SiC ，碳化铪靶 HfC ，碳化硼靶 B4C ，碳化钛靶 TiC ，碳化钨靶 W2C ，五氧化二铌靶 Nb2O5 ，氧化铒靶 Er2O3 ，氧化钴靶 CoO ，氧化铪靶 HfO2 ，氧化镓靶 Ca2O3 ，氧化钪靶 Sc2O3 ，氧化铝靶Al2O3 ，氧化镁靶 MgO ，氧化镍靶 NiO ，氧化钕靶 Nd2O3 ，氧化钽靶 Ta2O5 ，氧化铁靶 Fe2O3 ，氧化铜靶 CuO ，氧化锌靶 ZnO ，氧化钇靶 Y2O3 ，氧化铟靶In2O3 ， ITO 靶（ In2O3+SnO2 ）， AZO 靶 (ZnO+AL203) ， LGZO 靶，氧化铪靶 HfO2 。