厂商 :拟光科技(上海)有限公司
上海市 徐汇区- 主营产品:
软件具有直观的可视化界面,可设计各种光栅结构:方波全息光栅,闪耀光栅,正弦、梯形、三角形、三点折线式及其它许多结构光栅等。包含衍射光栅、结构、衍射光学元件、光伏系统和光谱光栅。光栅的特征尺寸可以从纳米到毫米量级。同时可以计算衍射效率、近场、偏振、反射、透射以及内部场。全息光栅、布拉格光栅、表面光栅、光子晶体、衍射光束分束器、偏光器、抗反射各种定制特性可以使用户分析和优化用户自定义结构的光栅。这些包括导入测量的高度轮廓以及使用公式描述一个高度轮廓的可编程高度轮廓或者折射率分布介质。
2D 和 3D RCWA (严格耦合波分析) 算法
? OpenMP 多线程并行计算Fortran核心,无核数限制
? 严格设计1D 和2D亚波长光栅
? 严格设计广角1D和2D光束分束器和点阵器件
? 严格设计薄膜
? 严格设计体光栅
? 严格分析任意自定义的1D光栅
? 薄层和光栅设计
? 分析设计薄层膜和各种2D和3D光栅
基于 RCWA算法
? 快速和有效的多线程优化算法,遗传算法设计优化;
? 光源可以偏振和非偏振光源;
? 拥有全局和局部优化算法可以供选择;
? 可以优化光栅材料参数和光栅结构参数;
? 界面友好,便于操作和优化、它具有三维矢量代码;
? 仿真计算精度高,材料齐全;
? 任意光栅参数分析,包括光栅厚度,材料,电介质材料和金属材料折射率(可通过实部和虚部来定义);
? 任意复杂光栅如多材料,膜层,内部结构等;
? 薄膜分析,衍射级次及相位角分析,圆锥衬边及任意偏振;
? 任意偏振状态分析,各级指数任意变换,任意光栅级次分析,可编辑材料数据库,基于遗传算法优化,可输入任意代数约束表达式,任意数量控制参数,多重衍射效率目标,全差分优化选项控制。
特色:
? 宽光谱光源、非偏振光源, TE, TM, Conical 偏振;
? 700 多种材料数据库, 自定义函数;
? 十几种优化算法;
? 入射角度和波长扫描;
? 多种光栅变量, 包括介质、材料和相关链接变量;
? 自定义各种高性能2D 和3D 数据输出。