高纯锗靶材 锗锑碲靶材 合金靶材

高纯锗靶材锗锑碲靶材金属合金靶材

高纯锗靶材

纯度：99.999%

符号：Ge

原子量：72.61

熔点：937.2℃

沸点：2830℃

密度：5.32

折射率（波长nm）：4.4（2000nm）

蒸发方式：电子束 石墨舟

坩埚：Al2O3,石英

透明范围/nm:1700-100000 

外观：银灰色晶体

在10-4Torr蒸发温度：1167℃

莫氏硬度：6.0-6.5

薄膜的机械和化学性质：由BE源得极好膜层

性能：室温下，晶态锗性脆，可塑性很小；锗的化学性质稳定，常温下不与空气或水蒸气作用，但在600-700℃时，很快生成二氧化锗；在加热时，锗能在氧气和溴蒸汽中燃烧；锗与碳不起作 用，所以在石墨坩埚中熔化时不会被碳所污染；
高纯锗的优点：具有高的折射指数、低吸收、低色散、容易加工、有良好的机械强度、不吸潮等；
应用：红外膜
用途：广泛应用于红外光学器件、电子工业、光导纤维、医学、冶金、能源和太阳能电池；