氧化铝型抛光粉—Polimet

多c载体基含有特殊抗静电剂的氧化铝金属研磨和抛光粉

独特的优点

· 很好用于研磨和抛光工艺过程

· 提供非干性媒液

· 加速研磨作用

· 消除静电放电现象

· 提供研磨和抛光化合物的有效颗粒大小分布，能满足具体需求

· 抛光而光滑无痕

说明

氧化铝型抛光粉—Polimet是将纯氧化lv粉末分散于多c－水基液中制成的光学精整级悬浮液，里面加有抗静电剂。分散介质中颗粒大小分布极窄。基本上不干的、多c－水基的使用以及抗静电剂的存在可以有效阻止金属抛光过程中静电的积累。此外，氧化铝结晶结构的选择可以保证快速的琢磨速率，而多c－水基液则可保证抛光面光滑、无损无痕。

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