北京高纯三氧化二铝颗粒

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陶瓷化合物蒸发颗粒（纯度3N-4N，尺寸1-3mm）：一氧化硅、二氧化硅、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、二氧化锆、二氧化铪、二氧化铈、三氧化钨、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二钪、三氧化二铝、三氧化二铟、氧化镱、氧化锌、氧化镁、氧化钙、氧化铋、氧化铬、氧化镍、氧化铜、氧化铁、氧化钒、氟化镁、氟化钙、氟化镧、氟化镱、氟化钇、氟化钡、硫化物、硫化锌、硫化钙、硫化锑等陶瓷蒸发颗粒。

高纯单质金属溅射靶材（3N-5N）：铝靶Al、铬靶Cr、铜靶Cu、镍靶Ni、锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、石墨靶C、硅靶Si、钽靶Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶Mo等高纯单质金属溅射靶材。 
高纯陶瓷化合物溅射靶材（3N-4N）：ITO靶、AZO靶、IGZO靶、氧化镁靶MGO、氧化钇靶Y2O3、氧化铁靶Fe2O3、氧化镍靶Ni2O3、氧化铬靶Cr2O3、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、二硼化钛靶TiB2、氧化镁靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5等高密度陶瓷溅射靶材。 
备注：众诚新材生产的陶瓷靶材采用先进的陶瓷生产工艺；惰性气体保护热等静压烧结技术，相对密度大于95-99％，可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。

多元合金靶靶材（3N-4N）：镍钒合金靶Ni-V，镍铬合金靶Ni-Cr，钛铝合金靶Ti-Al，硅铝合金靶Si-Al，铜铟合金靶Cu-In，铜镓合金靶Cu-Ga，铜铟镓合金靶Cu-In–Ga，铜铟镓硒靶Cu-In–Ga-Se，锌铝合金靶Zn-Al，钨钛W-Ti，铁钴Fe-Co等高纯合金溅射靶材。 
备注：众诚新材生产的高纯合金溅射靶材：晶粒度小150-60um，相对密度高（99-99.9％），纯度高（99.9-99.99％），可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。