电子工业纯水_反渗透+EDI

电子工业纯水_电子芯片清洗.采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺

             

型号：XS-RO+ED
本设备使用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺。
电子芯片清洗对其用水要求极为严格，EDI高纯水设备采用先进技术将原水水质纯度提升，使其满足电子清洗用水标准。
电子信息行业作为新兴产业发展迅猛，其产值达万亿元上电子行业与纯净水关系密切，而且同步发展，电子产品的质量要求越高，要求水质的纯净程度越高。20世纪50年代末，电子管风行和半导体在国内刚浮现之时，制取纯净水对保证产品质量是重要环节，到80年代末制订的高纯水标准，代表了我国纯水制备的水平。
国家标准GB11446－1989《电子级水》将纯净水划分为五级，一级水电阻率应达18MΩ·cm，亦即电导率为0.056礢/cm；二级水电阻率15 MΩ·cm，电导率为0.067礢/cm；三级水电阻率10 MΩ·cm，电导率为0.1礢/cm；四级水电阻率≥2 MΩ·cm，电导率为≤0.5礢/cm；五级水电阻率≥0.5 MΩ·cm，电导率为≤2礢/cm。
除了通用而便于测量的电阻（导）率指标外，还对五个级别的水规定了不同粒径的微粒数，细菌个数。还规定了总有机碳（TOC）、二氧化硅、氯离子、钙、钾、钠、锌、铁、铜等的含量。
在电子元器件生产工艺中，除了对空气净化外，对操作环境和产品都要不断进行清洗。早期使用氟氯烃之类溶剂甚多，自为保护臭氧层限制和禁止破坏臭氧层物质的使用与排放以来，纯净水冲洗成了主要替代工艺，其使用量迅速增长的同时，对水的质量要求也不断提高，从而促进了纯水制备技术的发展。
为满足《电子级水》中一级水和二级水的质量要求，除了进行水的深度去离子处理外，还必须去除水中胶体物质（含有机物与胶体硅）、病毒和细菌。