平板状氧化铝研磨微粉TWA3

片状氧化铝是以工业氧化铝为原料，添加复合矿化剂，经过高温煅烧而成。晶体形貌为具有一定厚度的片状备用于以下方面的研磨抛光磨料，平板型氧化铝研磨抛光微粉的用途:
1）电子行业: 单晶硅片、石英晶体、化合物半导体的研抛。
2）玻璃行业: 硬质玻璃和显象管玻壳的加工。

3）涂附行业: 特种涂料和等离子喷涂的填充剂。

4）金属和陶瓷加工业。

手机的铝机壳，不锈钢、铝合金等金属材料的抛光。产品久置会有分层、沉淀，均属正常物理现象，使用前请搅拌均匀；

使用过程中保持持续搅拌，可保证稳定的研磨效率

根据工艺要求进行一定的稀释，一般建议1:1至1:3。

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