CMP抛光液

GRISH CMP抛光液

　　GRISH CMP抛光液是以硅溶胶为原料，针对不同研磨材料的特性进行独特配方设计，保证抛光过程中PH值基本保持不变，从而保证抛光速率的稳定及节约抛光时间。

产品规格：

产品特点：
1. 粒径均一（粒径分布窄，形貌呈正球状）；
2. 抛光速率快（特殊配方，PH值稳定不变）；
3. 高平坦化（表面质量Ra < 0.2nm, TTV < 3 u）；;
4. 循环次数较多；
5. 可低温抛光 （35℃以下）。

应用范围：
广泛用于多种材料纳米级的化学机械抛光。如，蓝宝石材料、硅片、不锈钢、铝镁合金、化合物晶体等的抛光加工。