供应石久Al2O3三氧化二铝,氧

氧化铝粒 
化学符号：Al2O3 
外 观:透明

规格：1-3mm

纯度：4N 
密 度：4g/cm3 
熔 点：2045℃ 
沸 点：2980℃ 
蒸发温度：1800℃ 
蒸发方式：电子束 
透明范围/nm：200-7000 
折射率n（波长/nm）：1.59(600)/1.56(1600) 
基片温度为300℃时，λ=600nm,n=1.62；λ=1.6μm,n=1.59； 
基片温度为40℃时， λ=600nm,n=1.59；λ=1.6μm,n=1.56； 
蒸发源材料:W 、Mo 
溶 解 于：纯酸、碱 
薄膜的机械和化学性质：形成光滑的硬膜 
性 能：高纯氧化铝具有耐腐蚀、耐高温、高硬度、高强度、抗磨损、抗氧化、绝缘性好和表面积大等特点；不溶于水，微溶于强酸和强碱溶液，并能被氢氟酸和硫酸氢钾浸蚀； 
高纯超细氧化铝的优点：纯度高、粒径小、密度大、高温强度大、耐蚀性和易烧结； 
应 用：增透膜，多层膜，防反膜，眼镜膜，保护膜 
用 途：广泛应用于生物陶瓷、精细陶瓷、化工催化剂、稀土三基色荧光粉、集成电路芯片、航空光源器件、湿敏性传感器及红外吸收材料； 
Al2O3膜的主要性能： 
密 度/g？cm-3:3.1-4.0 
电 阻 率/Ω？cm：1012-1013 
折 射 率：1.72-1.76 
禁带宽度eV：7 
介电常数：7.5-9.6 
产生龟裂厚度/μm:0.4 
介电强度/V？cm-1:1×106-7×106 
表面负电荷密度：3×1011-1012 
红外吸收峰/μm:14-16 
Al2O3-Si界面密度/（cm2？eV）-1: 1010-1011 
Al2O3分析报告: 
Mn Cr Pb Ni V Nb 
0.003 0.001 0.001 0.001 0.001 0.0001 
Co Ta 
0.001 0.001