常压喷枪等离子

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PL-BM10大气等离子清洗机它是利用能量转换技术，在大气常压的状态下，以电能将气体转化为活性极高的气体等离子体，气体等离子体能轻柔冲刷固体样品表面，引起分子结构的改变，从而达到对样品表面有机污染物进行超清洗，在极短时间内有机污染物就被外接真空泵彻底抽走，其清洗能力可以达到分子级。在一定条件下还能使样品表面特性发生改变。因采用气体作为清洗处理的介质，所以能有效避免样品的再次污染。等离子清洗机既能加强样品的粘附性、相容性和浸润性，也能对样品进行消毒和杀菌。等离子清洗机现已广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、高分子、生物医学、微观流体学等领域。

    国产等离子清洗机是在国外等离子清洗机价格贵，难以推广等缺点的基础上，吸取了现有国内外等离子清洗机的优点，结合国内用户的使用需求，采用先进科技手段开发出的新型系列等离子清洗机。该产品除拥有其它等离子清洗器的优点外，更具有性能稳定、性价比高、清洗效率高、操作简便、使用成本极低、易于维护的优点。产品能适应不同用户对设备的特殊要求。清洗舱的材料有耐热玻璃和不锈钢可选择，不锈钢类清洗舱有圆形和方形可选择。。
功能：
对金属、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有机污染物 （如石蜡、油污、脱膜剂、蛋白等）进行超清洗。
改变某些材料表面的性能。
使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。
清除金属材料表面的氧化层。
对被清洗物进行消毒、杀菌。
优点
具有性能稳定、性价比高、操作简便、使用成本极低、易于维护的特点。 
对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性。 
完全彻底地清除样品表面的有机污染物。
定时处理、快速处理、清洗效率高。                             
绿色环保、不使用化学溶剂、对样品和环境无二次污染。
在常温条件下进行超清洗，对样品非破坏性处理。
应用领域
光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的超清洗。
清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，去除金属材料表面的氧化物。
清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体和宝石。
清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。
高分子材料表面的修饰。
封装领域中的清洗和改性，增强其粘附性，适用于直接封装及粘和。
改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
涂覆镀膜领域中对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增强表面粘附性、浸润性、相容性，显著提高涂覆镀膜质量。
牙科领域中对钛制牙移植物和硅酮压模材料表面的预处理，增强其浸润性和相容性。
医用领域中修复学上移植物和生物材料表面的预处理，增强其浸润性、粘附性和相容性。对医疗器械的消毒和杀菌。
    PL-BM10大气等离子清洗机
外形尺寸：    380*550*220
     喷枪直径：10mm(固定和旋转喷头）
     转速（旋转喷头）：3000转/分钟
     频率：16-20KHZ
     功率：300-600W(可调）

     电压：180-250V宽范围稳压

刚接触等离子清洗技术的客户总会问“大气与真空型到底有什么区别？”用两个词概括：大气型快速量产，真空型精密全面。

      大气等离子清洗设备，如今应用最多的就是手机行业：手机玻璃表面活化处理，底板点胶前处理，封装前端处理，手机壳表面喷漆前活化处理等等。一般的手机工厂每日几K到几十K的产能，就必须要有快速高效的活化处理工艺，大气等离子清洗机就是为此而生的。无论配合在三轴平台，传输机还是装在整条流水线上，大气等离子清洗机都能快速使被处理材料其中一个表面达到很好的活化效果。

由于大气等离子的喷嘴中是直喷出的离子，这种情况由喷嘴的结构间接的改变了离子的运动方向（直接面对被处理材料）。从而使大气等离子在流水线上只能处理一个表面，这也是与真空等离子清洗最大的区别之一。真空等离子清洗机在工作中，腔体内部的离子是不定向的，只要材料在腔体裸露出的部分，不管是哪个面哪个角落都可以洗得到！

区别之二在于使用气体方面，大气型等离子工作时只需要接入压缩空气，当然想效果更好直接接入氮气。而真空型等离子清洗机在气体上会有更多的选择，并且可以选择多种气体进行匹配对材料表面氧化物、纳米级别微生物的去除有着极强的改善。在这里要强调的一点是：大气型通入气体的目的主要是为了活化，侵润性增强。而真空型通入气体的目的是为了增强蚀刻效果，去除污染物，去除有机物，侵润性增强等。显然气体的选择范围更广，等离子清洗的工艺会应用得更为广泛！