TR-9200焦炉氧含量分析仪

厂商 :西安聚能仪器科技有限公司

陕西 西安
  • 主营产品:
  • 红外分析仪
  • 氧化锆氧分析仪
  • 氧分析仪
联系电话 :15202960192
商品详细描述
焦炉煤气分析仪系统
关于电捕焦油器前后需不需要装氧控仪的问题


对于,焦炉,高炉,转炉,发生炉煤气等而言:
5
1310电捕焦油器应符合下列规定:
——
电捕焦油器入口和洗涤塔后应设隔断装置;
——
电捕焦油器应设泄爆装置,并应定期检查;
——
电捕焦油器应设当下列情况之一发生时能及时切断电源的装置:
煤气含氧量达1%;
煤气压力低于50Pa(5.1mmH2O)
绝缘保温箱的温度低于规定(一般不低于煤气入口温度加25)
——
电捕焦油器应设放散管、蒸汽管;
——
电捕焦油器底部应设保温或加热装置;
——
电捕焦油器沉淀管问应设带阀门的连接管;
——
抽气机出口与电捕焦油器之间宜设避震器。
而对于焦炉煤气而言:
——
电捕焦油器应遵守本规程51310的有关规定。但电捕焦油器设在抽气机前时,煤气入口压力允许负压,可不设泄爆装置。在鼓风机后,应设泄爆装置,设自动的连续式氧含量分析仪,煤气含氧量达1%时报警,达2%时切断电源。
技术参数和说明:
技术参数:(焦炉煤气电捕焦器现场采样分析点工况)
取样点位置:焦炉煤气电捕焦器出口
分析参数: O2(可选择分析原理:电化学,磁氧或者激光分析仪,其价格有较大差异)
测量范围: O20-2%(当达到1%O2输出报警节点信号,自由设定)
被测煤气温度:4060
含尘量:微量
含水量:中等
含焦油量:少量
其他腐蚀成份(S O2):少量
结晶物(萘):少量
管道压力:微正压
产品详细信息
分析柜组件及装置技术参数:由前处理单元、供电单元、分析校对单元组成。 1)前处理单元包括: 专用过滤器组件(除奈、焦油)、气液分离器、除湿器、抽气泵(进口部件)、精除硫管、流量调节器、等。通过粗、细三级过滤和分离、吸收粉尘、焦油、奈、酸雾、冷却除湿水份的综合净化处理,提供分析仪器超净的分析气源。 2)供电及控制单元包括: 电源控制盘(包括高性能空气开关、接线端子、)、输出故障报警接点信号;具有数据采集、自动处理氧气成份含量越限报警功能。控制中枢PLC、二位三通电磁阀等。                                  3)分析单元包括: JNYQO11C型氧量分析仪(进口传感器)、流量计、流路切换阀、标准样气等。 4)越限报警功能: 分析仪对净化后的煤气样品进行连续在线分析,输出4-20mA信号和无源触电信号。若氧浓度越限时,装置立即输出报警接点信号(无源接点,容量1A),确保电捕焦器设备安全运行。 5)测量范围及分析精度: 测量对象及量程:   0-2% O2        度:≤±1%F.S   线性误差: ≤±1%F.S 装置系统响应时间:T9015S 6)信号输出: 现场所大屏液晶数字显示O2含量并以 4—20mA成份信号隔离输出给上位机或DCS。超限报警、联锁、故障报警信号输出及容量: 氧浓度越限报警值在仪表量程范围内分别可设定(出厂时设定浓度报警值:0.80%,O2)报警信号输出无源接点,容量:220VAC1A 7)装置预处理功能 不锈钢取样探头、三级除尘、除硫、除萘、除焦油、除酸雾、除水份、稳压、稳流、快速放散、粉尘净化精度≤0.1u 8)装置维护周期:≥30 三、设计方案及配置说明 1、配置原则: 本分析装置中的重要关键部件(如:抽气泵、传感器、PLC等)采用原装进口,其它能够长期保证使用的关键、主要和一般性部件则采用国内合资企业和本厂生产制造的,尽量减少后期维护的运行成本。 2、本分析装置主要技术特点如下: 本装置是按交钥匙式工程设计。装置除取样器外和专用过滤器组件,样气的预处理单元、供电单元和分析校对单元均置于分析柜内,出厂前已调试完毕。现场只需用户安装探头、辅设取样线、外围电源和分析柜就位即可。到时供方来技术人员到现场指导按装和调试。 3、分析柜按国家标准制作,开有观察大窗方便操作者巡视和维护。。 4、系统全干法流程,对分析组分不会有影响取样器、取样管,各类管接头(与样气接触部分)、抽气泵均为防腐设计。泵等均采用防腐不锈钢、聚四氟乙烯材料或特殊防腐处理,提高了系统防腐性。保证了系统使用寿命。 5、采用自动除湿器,具有使用寿命长,维护工作量小,除湿效果稳定等特点,样气中的残余水汽将得到彻底清除,从而达到干燥样气的目的,避免了水汽对仪器的干扰。
特点和优势:
1)不受背景气体的影响(2)不受粉尘与视窗污染的影响(3)自动修正温度,压力对测量的影响
产品详细信息(激光氧分析仪)
 
一、半导体激光光谱吸收技术基本原理
半导体激光光谱吸收技术(diode laser absorption spectroscopy,DLAS)最早于20世纪70年代提出。初期的DLAS技术只是一种实验室研究用技术,随着半导体激光技术在20世纪80年代的迅速发展,DLAS技术开始被推广应用于大气研究、环境监测、医疗诊断和航空航天等领域。特别是20世纪90年代以来,基于DLAS技术的现场在线分析仪表已逐渐发展成为熟,与非色散红外、电化学、色谱等传统工业过程分析仪表相比,具有可以实现现场原位测量、无需采样和预处理系统、测量准确、响应迅速、维护工作量小等显著优势,在工业过程分析和污染源监测领域发挥着越来越重要的作用。
1.
朗伯-比尔定律
DLAS
技术本质上是一种光谱吸收技术,通过分析激光被气体的选择性吸收来获得气体的浓度。它与传统红外光谱吸收技术的不同之处在于,半导体激光光谱宽度远小于气体吸收谱线的展宽。因此,DLAS技术是一种高分辨率的光谱吸收技术,半导体激光穿过被测气体的光强衰减可用朗伯-比尔(Lambert-Beer)定律表述
 
式中,IV,0 IV 分别表示频率V的激光入射时和经过压力P,浓度X和光程L的气体后的光强;ST)表示气体吸收谱线的强度;线性函数gv-v0)表征该吸收谱线的形状。通常情况下气体的吸收较小,可用式(4-2)来近似表达气体的吸收。这些关系式表明气体浓度越高,对光的衰减也越大。因此,可通过测量气体对激光的衰减来测量气体的浓度。
2.
光谱线的线强
气体分子的吸收总是和分子内部从低能态到高能态的能级跃迁相联系的。线强ST)反映了跃迁过程中受激吸收、受激辐射和自发辐射之间强度的净效果,是吸收光谱谱线最基本的属性,由能级间跃迁概率经及处于上下能级的分子数目决定。分子在不同能级之间的分布受温度的影响,因此光谱线的线强也与温度相关。如果知道参考线强ST0),其他温度下的线强可以由下式求出
 
式中,QT)为分子的配分函数;h为普朗克常数;c为光速;k为波尔兹曼常数;En
为下能级能量。各种气体的吸收谱线的线强ST0)可以查阅相关的光谱数据库。
 
二、测量技术和特点
1.
调制光谱检测技术
调制光谱检测技术是一种被最广泛应用的可以获得较高检测灵敏度的DLAS技术。它通过快速调制激光频率使其扫过被测气体吸收谱线的定频率范围,然后采用相敏检测技术测量被气体吸收后透射谱线中的谐波分量来分析气体的吸收情况。调制类方案有外调制和内调制两种,外调制方案通过在半导体激光器外使用电光调制器等来实现激光频率的调制,内调制方案则通过直接改变半导体激光器的注入工作电流来实现激光频率的调制。由于使用的方便性,内调制方案得到更为广泛的应用,下面简单描述其测量原理。
在激光频率 扫描过气体吸收谱线的同时,以一较高频率正弦调制激光工作电流来调制激光频率,瞬时激光频率 可表示为
 
式中, t)表示激光频率的低频扫描;a是正弦调制产生的频率变化幅度;w为正弦调制频率。透射光强可以被表达为下述Fourier级数的形式。
 
等于 ,则可按下式获得nFourier谐波分量
 
谐波分量 可以使用相敏(PSD)来检测。调制光谱技术通过高频调制来显著降低激光光器噪声(1/f噪声)对测量的影响,同时可以通过给PSD设置较大的时间常数来获得很窄带宽的带通滤波器,从而有效压缩噪声带宽。因此,调制光谱技术可以获得较好的检测灵敏度。
3.
技术特点和优势
1)不受背景气体的影响
传统非色散红外光谱吸收技术采用的光源谱带很宽,其谱宽范围内除了被测气体的吸收谱线外,还有很多基他背景气体的吸收谱线。因此,光原发出的光除了被待测气体的多条吸收谱线吸收外还被一些背景气体的吸收谱线吸收,从而导致测量的不准确性。
而半导体激光吸收光谱技术中使用的半导体激光的谱宽小于0.0001nm,为上述红外光源谱宽的1/106,远小于被测气体一条吸收谱线的谱宽。DLAS气体浓度分析仪首先选择被测气体位于待定频率的某一吸收谱线,通过调制激光器的工作电流使激光波长扫描过该吸收谱线,从而获得如图3所示的单线吸收光谱数据。
在选择该吸收谱线时,就保证在所选吸收谱线频率附近约10倍谱线宽度范围内无测量环境中背景气体组分的吸收谱线,从而避免这些背景气体组分对被测气体的交叉吸收干扰,保证测量的准确性(例如图3中位于6408cm-1 频率处的CO吸收谱线附近无H2O吸收谱线,从而测理环境中水分不会对CO的测量产生干扰)。
2)不受粉尘与视窗污染的影响
气体的浓度由透射光强的二次谐波信号与直流信号的比值来决定。当激光传输光路中的粉尘或视窗污染产生光强衰减时,两信号会等比例下降,从而保持比值不变。因此过程气体中的粉尘和视窗污染对于仪器的测量结果没有影响。实验结果表明即使粉尘和视窗污染导致光透过率下降到1%,仪器示值误差仍不超过3%
3)自动修正温度,压力对测量的影响
一些工业过程气体可能存在几百摄氏度的温度变化和几个大气压的压力变化。气体温度和压力的变化会导致二次谐波信号波形的幅值与形状发生相应的变化,从而影响测量的准确性。
为了解决这个问题,DLAS技术中可增加温度、压力补偿算法,只要将外部传感器测得的气体温度,压力信号输入补偿算法中,DLAS气体浓度分析仪就能自动修正温度、压力变化对气体浓度测量的影响,保证了测量的准确性。
 
JNYQ-G-8X
激光气体在线分析仪用来进行连续工业过程和气体排放测量,适合于恶劣工业环境应用,如钢铁各种燃炉、铝业和有色金属、化工、石化、水泥、发电和垃圾焚烧等。

高分辨率(激光扫描频率是传统激光分析仪的几倍)
模块化设计,可现场模块化替换,快速维护和维修
高光穿透能力,适合于高粉尘阻挡环境应用
专利性航空动力学原理插入管,适合于特高粉尘阻挡环境应用
无交叉干扰
无需采样,现场在线直接测量
快速测量(响应时间可低于1秒)
结构紧凑、坚固耐用
JNYQ-G-8X
为系列产品,根据应用要求不同,主要有以下几种组态型号:
JNYQ-G-81(原位型)
  激光原位测量,响应速度快,测量精度高
  集成式正压防爆设计,安全可靠
  模块化设计,可现场更换所有功能模块,维护方便
  智能化程度高、操作方便
JNYQ-G-82(旁路型)
  激光旁路测量,测量精度高,抗干扰能力强
  光学非接触测量,可直接测量高温、强腐蚀性气体
  旁路处理装置简单、可靠,可直接安装在过程管道处
  全系统防爆,支持气体温度、压力自动补偿
JNYQ-G-83(分布型)
  分布式激光测量,支持八个测量通道,高性价比
  测量通道独立激光测量模块,可靠性高
  网络化集中显示和控制,监控方便
JNYQ-G-8X可测量气体成分和探测极限
气体成分
探测极限(1S
气体成分
探测极限(1S
管道式测量
远程式测量
采样式测量
管道式测量
远程式测量
采样式测量
ppmv-meter
距离=250m,ppbv
单元长度=12m,ppmv
ppmv-meter
距离=250m,ppbv
单元长度=12m,ppmv
O2
100
8000
75
CO
50
100
1.0
NO2
25
50
0.5
CO2
50
100
1.0
HF
0.08
0.2
0.005
CH2CHCL
2.0
4.0
0.05
HBr
50
100
1.0
C2H4
20
40
0.5
H2O
2
4.0
0.05
CH4
2.0
4.0
0.05
HCN
0.15
0.3
0.03
C2H6
50
100
1.0
HI
2.5
5.0
0.05
HCL
0.3
0.6
0.006
NH3
1.0
10
0.1
NO
50
100
1.0
C2H2
5.0
10
0.1
C3H8
10
20
0.2
H2S
20
40
0.25
PH3
78
 
 

1、         氧分析仪的选型
选型一、(进口日本费加罗电化学原理传感器)

技术参数:
.  测量范围: 0.0025%O2 (量程可选)
.      度:≤±2F.S
. 稳 性:零点漂移≤±1F.S/7d
量程漂移≤±1F.S/7d
. 重 性:≤±1%;
中心单片机
 
.  率:0.01%
. 触点容量:220VAC1A   24VDC1A
. 输出信号:420mA
. 工作环境:温度:-5℃~+45℃;
        湿度:≤90%RH
.  工作电源:220VAC±10%50Hz±5%
.  使用寿命:3
. 重    量:约4.6kg;
选型二、(原装进口西门子磁压式分析仪,需要参比气)

技术参数:
.  测量范围: 0.0002/25/50/100%O2 (量程可选)
.      度:≤±1F.S
. 稳 性:零点漂移≤±1F.S/7d
量程漂移≤±1F.S/7d
. 重 性:≤±1%;
中心单片机
 
.  率:0.001%
. 触点容量:220VAC1A   24VDC1A
. 输出信号:420mA
. 工作环境:温度:-5℃~+45℃;
        湿度:≤90%RH
.  工作电源:220VAC±10%50Hz±5%
.  使用寿命:5
. 重    量:7.6kg;
选型三、(原装进口芬兰激光分析仪

技术参数:
.  测量范围: 0.005%O2
.      度:≤±1F.S
. 稳 性:零点漂移≤±1F.S/7d
量程漂移≤±1F.S/7d
. 重 性:≤±1%;
中心单片机
 
.  率:0.01%
. 触点容量:220VAC1A   24VDC1A
. 输出信号:420mA
. 工作环境:温度:-5℃~+45℃;
        湿度:≤90%RH
.  工作电源:220VAC±10%50Hz±5%
.  使用寿命:10
. 重    量:5.6kg;
 




相关产品推荐