cvd化学气相沉积

? ? ? ?真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支，化学气相沉积加工，它已广泛地应用于光学、电子学、能源开发，理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等。此外还有化学气相沉积法。首先在光学方面，一块光学玻璃或石英表面上镀一层或几层不同物质的薄膜后，即可成为高反射或无反射(即增透膜)或者作任何预期比例的反射或透射材料，也可以作成对某种波长的吸收，而对另一种波长的透射的滤色名片。

? ? ? ?目前，薄膜制程技术广泛应用于半导体工业及精密机械上，由于利用薄膜制程技术所生产的产品具有很高附加价值，金属化学气相沉积，使薄膜制程技术与薄膜材料被广泛应用于研究和实际，同时带来镀膜技术的迅速发展。通常，镀膜方法主要包括离子镀膜法、磁控溅镀、真空蒸发法、化学气相沉积法等。然而，随着集成电路的密集及微型化，精密机械的精度提升，对于镀膜厚度要求愈渐严苛。

真空镀膜或许很少有人知道，但是真空镀膜的产品却是每个人都使用过

真空镀膜加工技能是一种新颖的资料组成与加工的新技能，是外表工程技能范畴的主要组成部分。真空镀膜加工技能是使用物理、化学手法将固体外表涂复一层特殊功能的镀膜，超声波化学气相沉积，然后使固体外表具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装修等许多优于固体资料本身的优胜功能，台湾化学气相沉积，到达提高商品质量、延伸商品寿数、节约能源和取得明显技能经济效益的效果。

真空镀膜加工能被誉为具发展前途的主要技能之一，并已在高技能产业化的发展中展现出诱人的市场前景。这种新式的真空镀膜加工技能已在国民经济各个范畴得到使用，如航空、航天、电子、信息、机械、石油、化工、环保、等范畴。

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