塑料镀膜设备

PVD是物相沉积技术的简称，横沥镀膜设备，是指在真空条件下，采用物理的方法将材料（俗称靶材或膜料）气化成气态分子、原子或离子，塑料镀膜设备，并将其沉积在工件形成具有某种特殊功能的薄膜的技术，常见的PVD沉积技术有：蒸发技术、溅射技术、电弧技术。

目前，提高NbFeB永磁材料耐腐蚀性能的方法有添加合金元素和外加防护性镀层，但主要以添加防护性镀层(金属镀层、有机物镀层和复合镀层)为主。防护性镀层可以阻碍腐蚀相与基体之间的相互接触从而减缓磁体的腐蚀。添加镀层的方法有电镀、化学镀、物相沉积等。

真空镀膜机的厚度均匀性主要取决于

1.基片材料与靶材的晶格匹配度

2.基片表面温度

3.蒸发功率、蒸发率

4.真空度

5.涂层时间和厚度。

成分均匀性：蒸发涂层的成分均匀性不易保证。可调节的具体因素同上。但由于原理上的限制，非单组分涂层的蒸发涂层组分均匀性较差。

晶向均匀性：1、晶格匹配度 ?2、基片温度 ?3、蒸发速率。

真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的真空蒸发镀、溅射镀膜和离子镀等镀膜技术。如今镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广泛，尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有及其重要的地位。

如今随着镀膜技术的快速增长，汽车镀膜设备，各种类型的真空镀膜机也开始随之出现。所谓真空镀膜设备工艺就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。

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