化学气相沉积

真空镀膜设备真空热处理是指金属制件在真空或先抽真空后通惰性气体条件下加热，然后在油或气体中淬火冷却的技术。由于真空热处理时，工件基本不氧化，钢件不脱碳，采用通气对流加热方式还可使加热均匀，超声波化学气相沉积，减少表面和心部的温差，从而也减少畸变。目前它已成为工模具不可或缺和的热处理工艺。化学气相沉积

真空电镀是真空镀膜工艺的一项新发展。真空电镀当高温蒸发源通电加热后，真空电镀促使待镀材料—蒸发料熔化蒸发。真空电镀蒸发料粒子获得一定动能，真空电镀则沿着视线方向徐徐上升，后真空电镀附着于工件外表上堆积成膜。

真空镀膜应用属于一种干式镀膜，它的主要方法包括以下几种：

1、真空蒸镀

其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片。

2、溅射镀膜

溅射镀膜是真空条件下，多功能化学气相沉积，带正电的离子撞击，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。

3、离子镀膜

利用气体放电使工作气体或被蒸发物质（膜材）部分离化，cvd化学气相沉积，并在离子轰击下，将蒸发物或其反应物沉积在基片表面。

在镀膜领域，镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜性能的一个重要因素。薄膜的成膜过程，是一个物质形态的转变过程，不可避免地在成膜后的膜层中会有应力存在，对于多层膜来说有不同膜料的组合，各膜层体现出的应力是有所不同的，有的是张应力、有的是压应力，还有膜层及基片的热应力。

辅助气体的充入要考虑膜料的放气，化学气相沉积，镀前对膜料充分预熔充分放气，也可以避免由于蒸镀中膜料放气造成真空度过度下降，从而影响膜强度。

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