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厂商：迈可诺技术有限公司

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商品详细描述

平面刻蚀是在两块平面电极之间进行刻蚀，它与常见的感应耦合等离子体（ICP）不同，是通过高压线圈产生的。我们的SCE系列铝制反应舱等离子体系统是该领域最新的产品。

无论是做研发阶段还是量产阶段，总有一款SCE系统可以满足用户的需要。无论从设备设计质量还是经济实用的角度考量，我们的等离子平面刻蚀机都具优势。

SCEA1414铝制舱等离子平面刻蚀机
1、可配三路气体通路；
2、约45升舱体容积（14x14x14英寸）的反应舱；
3、可配四种不同等离子模式的四托架结构；
4、射频功率为0-300 瓦, 13.56兆赫兹；
5、可选配 600瓦和1000瓦 13.56兆赫兹的功率源；
6、可选配低频；

SCEA1818 铝制舱等离子平面刻蚀机
1、可提供四路气体通道；
2、约96升舱体容积（18x18x18英寸）的反应舱体；
3、配有6托架结构，可支持初级或者下游等离子
4、可选配机械手样品上下载装置；
5、可选配生产线设置；
6、射频功率为0-600 瓦, 13.56兆赫兹；
7、可选配1000瓦 13.56兆赫兹的功率源；
8、可选配低频；

SCEQ0408石英舱等离子平面刻蚀机
1、可配三路气体通路；
2、约1.6升舱体容积（4英寸直径8英寸深度）的反应舱体；
3、标配射频功率为0-150 瓦手调，13.56兆赫兹；
4、可选配0-300瓦电调，13.56兆赫兹的功率源；

SCEQ0608石英舱等离子平面刻蚀机
1、可配三路气体通路；
2、约3.7升舱体容积（6英寸直径 8英寸深度）的反应舱体；
3、标配射频功率为0-150 瓦手调，13.56兆赫兹；
4、可选配0-300瓦电调，13.56兆赫兹的功率源；

SCEQ0808石英舱等离子平面刻蚀机
1、可配三路气体通路；
2、约6.5升舱体容积（8英寸直径8英寸深度）的反应舱体；
3、标配射频功率为0-150 瓦手调，13.56兆赫兹；
4、可选配0-300瓦电调，13.56兆赫兹的功率源；

石英舱系统可以配置，用于平面定向要非等向性和感应耦合等离子体（ICP）定向两种模式的等离子体产生。

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