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商品详细描述
上海伯东德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵组脉冲激光沉积系统应用
脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition, PLD），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上, 得到沉淀或者薄膜的一种手段. PLD 系统由多个真空腔体组成，整个系统需要超高真空且不能引入任何杂质，对环境的清洁度要求较高，必须配备无油干泵和分子泵抽真空。由于各个辅助腔体体积较小, 因此特别适合使用 pfeiffer Hicube 系列分子泵组. 伯东公司销售维修的 Pfeiffer 分子泵组因其结构紧凑体积小，清洁无油（前级泵配备干泵）、抽速快、极限真空度高达10-11mbar等优点一经上市好评如潮。
客户案例一：江苏某大学电信系 脉冲激光沉积系统
1.系统功能：主要用于Mn氧化物等复杂材料膜。
2.涡轮分子泵真空度要求: 真空度< 1x10-6pa
3.样品尺寸：6英寸
4.基片旋转，加热温度：750℃
5.膜生长控制模式：镀率/厚度/时间 控制模式
该脉冲激光沉积系统 Pfeiffer 分子泵配置:
1.分子泵 Pfeiffer Hipace 400
2.分子泵 Pfeiffer Hipace 80
3.干泵 Pfeiffer MVP 040
脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition, PLD），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上, 得到沉淀或者薄膜的一种手段. PLD 系统由多个真空腔体组成，整个系统需要超高真空且不能引入任何杂质，对环境的清洁度要求较高，必须配备无油干泵和分子泵抽真空。由于各个辅助腔体体积较小, 因此特别适合使用 pfeiffer Hicube 系列分子泵组. 伯东公司销售维修的 Pfeiffer 分子泵组因其结构紧凑体积小，清洁无油（前级泵配备干泵）、抽速快、极限真空度高达10-11mbar等优点一经上市好评如潮。
客户案例一：江苏某大学电信系 脉冲激光沉积系统
1.系统功能：主要用于Mn氧化物等复杂材料膜。
2.涡轮分子泵真空度要求: 真空度< 1x10-6pa
3.样品尺寸：6英寸
4.基片旋转，加热温度：750℃
5.膜生长控制模式：镀率/厚度/时间 控制模式
该脉冲激光沉积系统 Pfeiffer 分子泵配置:
1.分子泵 Pfeiffer Hipace 400
2.分子泵 Pfeiffer Hipace 80
3.干泵 Pfeiffer MVP 040
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