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磁控溅射法定义是什么?
磁控溅射法是在高真空充入适量的Ar,在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁) 之间施加几百K 直流电压,在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电,使Ar发生电离。Ar离子被阴极加速并轰击阴极靶表面,将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。
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磁控溅射镀膜设备技术的特点
创世威纳——专业磁控溅射镀膜设备机供应商,我们为您带来以下信息。
(1)工件变形小 由于工件表面均匀覆盖辉光,温度一致性好,可以通过控制功率输出来实现均匀升温。另阴极溅射抵消了渗人元素引起的尺寸扩一大
(2) 渗层的组织和结构易于控制 通过调整工艺参数,可得到单相或多相的渗层组织
(3)工件无须附加清理 阴极溅射可以有效去除氧化膜,净化工件表面,同时真空处理无新生氧化膜,这些都减少了附加设备和工时,降低了成本。
(4) 防渗方便 不需渗的地方可简单地遮蔽起来,对环境无公害,无污染,劳动条件好。
(5) 经济效益高,能耗小 虽然初始设备投资较大,但工艺成本极低,是一种廉价的工程技术方法。此外,离子轰击渗扩技术易实现工艺过程或渗层质量的计算机控制,质量重复性好,可操作性强。
【磁控溅射镀膜设备】应用常见问题
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磁控溅射镀膜设备是现阶段这种镀一层薄薄的膜商品,对比传统式的水电镀工艺而言,磁控溅射镀膜设备安全,可以遮盖,磁控溅射镀膜机,填补多种多样水电镀工艺的缺点。近些年磁控溅射镀膜设备技术性获得了普遍的运用,现中国磁控溅射镀膜设备生产厂家许许多多的也十分多,可是致力于磁控溅射镀膜设备生产制造,阅历丰富的却造磁控溅射镀膜设备生产厂家,就必定会有必须的经营规模,这种磁控溅射镀膜设备不好像大件的物品,磁控溅射镀膜设备其科技含量十分的高,购买磁控溅射镀膜设备时必须要先掌握。
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