cvd化学气相沉积设备

不导电膜镀膜设备是新技术、新产品、新工艺层出不穷，其产品价值高，市场潜力大，盈利空间大，将逐步替换传统电镀产业而成为主流的塑料类产品表面处理技术， 将为企业和社会带来明显的经济效益和社会效益。

蒸发镀膜设备运行与维护。 蒸发镀膜设备工作方式就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，化学气相沉积设备，采用一定方法加热待镀材料，小型化学气相沉积设备，使之蒸发、升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺.

真空镀膜机厚度均匀性，真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类

1。基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3. 蒸发功率，速率

4. 真空度

5. 镀膜时间，厚度大小。

镀膜机开总电源，真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延

1. 开水泵、气源。

2. 开总电源。

3. 开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。

4. 开机械泵、预抽，开涡轮分子泵电源、并启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。

5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后，关预抽，开前级泵和高真空阀继续抽真空，抽真空到达程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能打开电子枪电源。

真空纳米镀膜机设备的主要用途

(1)各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，化学气相沉积设备品牌，以提高太阳能电池的光电转换效率。

(2)装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。

(3) 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机

(4)化学气相沉积(MOCVD)生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。

磁控溅射除上述已被大量应用的领域，还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。

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