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例1-6型号为KP100-3、维持电流IH=3mA的晶闸管,使用在图1-6所示的三个电路中是否合理?为什么(不考虑电压、电流裕量)?
图1-6 例1-6图
解:(a)图的目的是巩固维持电流和擎住电流概念,擎住电流一般为维持电流的数倍。本题给定晶闸管的维持电流IH=3mA,那么擎住电流必然是十几毫安,而图中数据表明,晶闸管即使被触发导通,阳极电流为100V/50KΩ=3 mA,远小于擎住电流,晶闸管不可能导通,故不合理。
(b)图主要是加强对晶闸管型号的含义及额定电压、额定电流的理解。
本图所给的晶闸管额定电压为300A、额定电流100A。图中数据表明,晶闸管可能承受的电压为311V,大于管子的额定电压,故不合理。
(c)图主要是加强对晶闸管型号的含义及额定电压、额定电流的理解。
晶闸管可能通过的电流有效值为150A,小于晶闸管的额定电流有效值1.57×100=157A,晶闸管可能承受的电压150V,不锈钢发热板加工,小于晶闸管的额定电压300V,在不考虑电压、电流裕量的前提下,可以正常工作,故合理。
一、厚膜混合集成电路
在绝缘基板上(通常为陶瓷)用厚膜技术制作出无源元件及其互联线,再采用厚膜组装技术组装上半导体有源器件、IC芯片和其它无源器件(如薄膜电阻或多层陶瓷电容器)组成具有一定功能的混合微电路——厚膜混合集成电路。 “混合”是因为它们在一种结构内组合两种不同的工艺技术:半导体技术 (如:有源芯片器件)和厚膜技术(成批制造的无源元件)。
v一般在产品包装单或产品说明书上都标出光致抗蚀层的厚度,可根据不同的用途选用不
同厚度的干膜。如印制蚀刻工艺可选光致抗蚀层厚度为25μm的干膜,图形电镀工艺则需选光 致抗蚀层厚度为40μm的干膜。如用于掩孔,天津不锈钢发热板,光致抗蚀层厚度应达到50μm。如镀厚金板还得选用50μm的专用镀金干膜,一般情况下, 40μm的干膜都可以满足正常的要求,在一些厂家, 40μm的干膜都可以做线宽线隙为3MIL的平行线了, 掩孔方面,也可掩住4.5MM以下的孔,当然,对那些线路简单而掩5.0MM以上的孔,选用50μm的干膜.有一些板,线路很密,要掩的NPTH孔又都超过5.0MM,这时候可以考虑用40μm的干膜,再进行二次钻孔了(既蚀刻后钻孔)。
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