等离子清洗 原理

     等离子体清洗处理技术企业：处理半导体，印刷电路板（PCB），微电子以及生命科学设备制造行业。 多年不断创新，设计和制造了一整套获奖和专利等离子体处理系统。我们协助开发等离子体工艺，提高产品的可靠性并提高产量。提供精密分配，流体管理，测试和检测以及表面处理产品的增强的工程，应用，销售，服务和支持。并将包括增强型工程，应用，销售，服务和对其电子制造客户的支持。为各种高科技行业生产精密分配，流体管理，真空等离子清洗机厂家苏州，测试和表面处理产品。我们升级的设备将使我们能够通过使用一个业务线的设备来改善或验证另一个业务的性能，为客户开发更深层的流程解决方案。我们预计随着我们推出专门针对PCB，半导体和LED封装以及晶圆级处理和组装的新产品，增长率将会持续。

　大气压辉光式等离子技术。RF射频作为激发能源，工作频率是13.56MHZ。采用氩气(Ar)作为发生气体，等离子，氧气或者氮气作为反应气体。

　　该技术的特点是：

　ⅰ、均匀度高。大气压等离子是辉光式的等离子幕，直接作用于材料表面，实验证明，同一材料不同位置的处理均匀性很高，这一特性对于工业领域进行下一环节的贴合、邦定、涂布、印刷等制程十分重要。

　ⅱ、 效果可控。大气压等离子有三种效果模式可选。一是选用

氩气/氧气 组合，主要面向非金属材料并且要求较高的表面亲水效果时采用，比如玻璃，PET Film等。 二是选用 氩气/氮气

组合，主要面向各种金属材料，如金线、铜线等。因氧气的氧化作用，替换为此方案中的氮气后，该问题可以得到有效控制。三是只采用氩气的情况，只采用氩气也可以实现表面改性，但是效果相对较弱。此为特殊情况，等离子清洗 原理 ，是少数工业客户需要有限而均匀的表面改性时采用的方案。

　ⅲ、安全易用。大气压式等离子，也是低温等离子，不会对材料表面造成损伤，例如对方阻值敏感的ITO Film材质亦可处理。无电弧，无需真空腔体，也无需废气排放系统，长时间使用并不会对操作人员造成身体损害。

　ⅳ、面积宽大。大气压等离子可以处理2m宽的材料，可以满足现有多数工业企业的需求。

　ⅴ、成本低廉。大气压等离子设备功耗低，运行成本以气体为主。以主要消耗气体氩气为例，同大气等离子气体消耗量相比不足其1/20.

       等离子体处理系统其先进的水平电极设计，集成了机架，晟鼎等离子清洗机，提供了材料对准，而双机架式机箱可以在一个周期内容纳多达三十个20“x 24”的面板，使每小时可达140-200单位。是一种完全独立的真空处理系统，具有集成的卷对卷材料处理，用于生产PCB制造环境。等离子体处理均匀性是表面jihuo，去除和回蚀应用中柔性电路板制造技术的关键操作特性。

     集成的卷对卷材料等离子体处理系统确保控制薄至25微米的基材的辊速度，张力和边缘引导。基于光学的边缘引导检测允许在倒带操作期间可靠的控制。底板加载简单，可通过四个门轻松访问装载部分。有三种配置可满足各种生产需求。

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