上海电子工业用超纯水设备

厂商 :统洁环保科技(上海)有限公司

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  • 主营产品:
  • 食品饮料行业用水设备
  • 软化水设备
  • 直饮水设备
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商品详细描述
电子工业用超纯水设备
一、概述
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm15MΩ.cm10MΩ.cm2MΩ.cm0.5MΩ.cm,以区分不同水质。
二、应用领域
电子半导体、集成电路板上用到的化工材料;
电池(蓄电池)制造过程工艺纯水;
光学镜片的超声波清洗;
石英、硅材料生产、加工、提纯;
实验室和中试车间;
高纯墨水、传真打印机中的喷墨、纳米墨水。
三、工艺流程
1、一级反渗透+混床(出水2---15mΩ.cm
原水箱→原水泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→保安过滤器→高压泵→反渗透主机→纯水箱→纯水泵→阴阳离子交换混床→微孔过滤器→储水罐→纯水输送泵→用水点
2、一级反渗透+EDI系统(出水5---15mΩ.cm
原水箱→原水泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→保安过滤器→高压泵→反渗透主机→纯水箱→EDI系统→储水罐→纯水输送泵→用水点
3、二级反渗透+EDI系统(出水18mΩ.cm
原水箱→原水泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→保安过滤器→一级高压泵→一级反渗透主机→PH调节→二级级高压泵→二级反渗透→纯水箱→脱气装置→微孔过滤器→EDI系统→抛光混床系统→储水罐→纯水输送泵→用水点
四、出水标准
符合美国ASTM标准、符合《中国电子行业超纯水国家标准》GB/T1146.1-1997
18MΩ.cm15MΩ.cm10MΩ.cm2MΩ.cm0.5MΩ.cm
五、订货须知
具体的设备处理量、出水标准、设备材质、尺寸及电器控制等,我公司将会提供给您详细的方案说明。
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