镀膜设备报价

 近十多年，真空离子镀技术的发展是最快的，它已经成为了当代先进的表面处理方法之一。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，镀膜设备哪家好，指的也就是真空离子镀膜机。

Q3: 请问PVD镀膜的具体原理是什么？

A3: 离子镀膜（PVD镀膜）技术，其原理是在真空条件下，重庆镀膜设备，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。

请问采用PVD镀膜技术镀出的膜层有什么特点？

A6: 采用PVD镀膜技术镀出的膜层，PVC镀膜设备，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。

Q7: 请问PVD能在镀在什么基材上？

A7: PVD膜层能直接镀在不锈钢以及硬质合金上，对锌合金、铜、铁等压铸件应先进行化学电镀铬，然后才适合镀PVD。

溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和操控系统构成。溅射源又分为电源和溅射枪磁控溅射枪分为平面型和圆柱型，其间平面型分为矩型和圆型，靶资料利用率30- 40%，镀膜设备供应商，圆柱型靶资料利用率>50% 溅射电源分为：直流、射频、脉冲， 直流：800-1000V(Max)导体用，须可灾弧。

射频：13.56MHZ，非导体用。脉冲：泛用，新发展出溅镀时须操控参数有溅射电流，电压或功率，以及溅镀压力(5×10-1—1.0Pa)，若各参数皆安稳，膜厚能够镀膜时刻估量出来。

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