金属靶材哪家好

高纯铜靶材的应用领域及发展趋势

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

高纯铜靶材的应用领域及发展趋势

      高纯铜靶材主要应用领域

高纯铜靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高品质装饰用品等行业。

信息存储产业：随着信息及计算机技术的不断发展，世界市场对记录介质的需求量越来越大，与之相应的记录介质用靶材市场也不断扩大，其相关产品有硬盘、磁头、光盘(CD-ROM，CD-R，DVD-R等)、磁光相变光盘(MO，CD-RW，DVD-RAM)。

集成电路产业：在半导体应用领域，靶材是世界靶材市场的主要组成之一，主要用于电极互连线膜、阻挡层薄膜、接触薄膜、光盘掩膜、电容器电极膜、电阻薄膜等方面。

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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

解决溅射过程中的微粒飞溅

溅射镀膜的过程中， 致密度较小的溅射靶受轰击时， 由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放， 造成大尺寸的靶材颗粒或微粒飞溅， 或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅。这些微粒的出现会降低薄膜品质。如在VLSI 制作工艺过程中，每150 mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。怎样解决溅射靶材在溅射过程中的微粒飞溅也是今后研究与设计靶材的发展方向之一。一般来说， 粉末冶金工艺制备的溅射靶材大都存在致密度低的问题，容易造成微粒飞溅。因此，对熔融铸造法制备的靶材，可采用适当的热加工或热处理来提高其致密度；而对粉末冶金溅射靶材则应提高原料粉末纯度，并采用等离子烧结、微波烧结等快速致密化技术，以降低靶材孔隙率。

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镀减反射膜技术

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

镀减反射膜技术

有机镜片镀膜的难度要比玻璃镜片高。玻璃材料能够承受300 °C以上的高温，而有机镜片在超过100 °C时便会发黄，随后很快分解。

可以用于玻璃镜片的减反射膜材料通常采用氟化镁（MgF2），但由于氟化镁的镀膜工艺必须在高于200°C的环境下进行，否则不能附着于镜片的表面，所以有机镜片并不采用它。

20世纪90年代以后，随着真空镀膜技术的发展，金属靶材哪家好，利用离子束轰击技术，使得膜层与镜片的结合，膜层间的结合得到了改良。而且提炼出的象氧化钛，氧化锆等高纯度金属氧化物材料可以通过蒸发工艺镀于树脂镜片的表面，达到良好的减反射效果。

以下对有机镜片的减反射膜镀膜技术作一介绍。

1）镀膜前的准备

镜片在接受镀膜前必须进行预清洗，这种清洗要求很高，达到分子级。在清洗槽中分别放置各种清洗液，并采用超声波加强清洗效果，当镜片清洗完后，放进真空舱内，在此过程中要特别注意避免空气中的灰尘和垃圾再黏附在镜片表面。最后的清洗是在真空舱内，金属靶材批发价格，在此过程中要特别注意避免空气中的灰尘和垃圾再黏附在镜片表面。最后的清洗是在真空舱内镀前进行的，放置在真空舱内的离子枪将轰击镜片的表面（例如用氩离子），完成此道清洗工序后即进行减反射膜的镀膜。

2）真空镀膜

真空蒸发工艺能够保证将纯质的镀膜材料镀于镜片的表面，同时在蒸发过程中，金属靶材，对镀膜材料的化学成分能严密控制。真空蒸发工艺能够对于膜层的厚度准确控制，哪里有金属靶材，精度达到。

3）膜层牢固性

对眼镜片而言，膜层的牢固性是至关重要的，是镜片重要的质量指标。镜片的质量指标包括镜片抗磨损、抗文化馆、抗温差等。因此现在有了许多针对性的物理化学测试方法，在模拟戴镜者的使用条件下，对镀膜镜片进行膜层牢度质量的测试。这些测试方法包括：盐水试验、蒸汽试验、去离子水试验、钢丝绒磨擦试验、溶解试验、黏着试验、温差试验和潮湿度试验等等。

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