三维立体车灯杯

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磁控溅射：

原理：磁控溅射法被认为是镀膜技术中最成熟的Zn0:A1薄膜制备方法，通常分为直流溅射（DC）和射频溅射（IC）两种。该方法是利用高能粒子轰击靶材，使得靶材原子或分子被溅射出来并沉积到衬底表面的一种工艺。

优点：以溅射产率高、基片温升低、薄膜基底结合力好、装置性能稳定、操作控制方便等优点受到青睐，磁控溅射法可获得高度c轴取向，表面平整度高，可见光透过率较高及低电阻率Zn0:A1的薄膜。

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物理l气相沉积（真空镀膜）基本方法 ：

从膜层特点看，真空蒸镀低温时密度小但表面光滑、气孔低温时多、附着性不太好、内应力为拉应力绕射性差；溅射密度大、气孔少但混入溅射气体较多、附着性较好、内应力为压应力、绕射性差；离子镀密度大 ，无气孔但膜层缺陷较多，附着性很好，内应力视工艺 条件而定，绕射性较好。

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