厂商 :北京石久高研金属材料有限公司
北京 北京- 主营产品:
溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶中毒的物理解释
一般情况下,金属化合物的二次电子发射系数比金属的高,靶中毒后,靶材表面都是金属化合物,在受到离子轰击之后,释放的二次电子数量增加,提高了空间的导通能力,金属靶材,降低了等离子体阻抗,金属靶材报价,导致溅射电压降低。从而降低了溅射速率。一般情况下磁控溅射的溅射电压在400v-600v之间,当发生靶中毒时,溅射电压会显著降低。
溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶材要求:
纯度 陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大,陶瓷靶材的纯度越高,溅射薄膜的均匀性和批量产品质量的一致性越好。近年来随着微电子产业的迅速发展,硅器件布线宽度已发展到0.13μm,对成膜面积的薄膜均匀性要十分严格,其纯度必须大于4N。此外显示平面用的ITO靶材对纯度也要求十分严格,要求ITO的纯度都大于4N。磁性薄膜用陶瓷靶材的纯度也要不低于3N。靶材作为溅射中的阴极源,固体中的杂质是沉积薄膜的主要污染源,金属靶材供应商,如:碱金属离子(Na+、K+)易在绝缘层(SiO)中成为可移动性离子,降低元器件性能,其含量须在0.01ppm(重量)以下。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~
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北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材市场概况:
日本。就美国而言.约有50家中小规模的溅射靶材制造商及经销商,其中比较大的公司员工大约有几百人。不过为了能更接近使用者,以便提供更完善的售后服务,金属靶材价格,全球主要溅射靶材制造商通常会在客户所 在地设立分公司。近段时间 ,亚洲的一些国家和地区,如台湾.韩国和新加坡,就建立了越来越多制造薄膜元件或产品的工厂,如 IC、液晶显示器及光碟制造厂。
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