厂商 :北京石久高研金属材料有限公司
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金属靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,金属靶材价格,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。
石久高研专注15年提供高纯靶材 高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~





什么是金属靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
金属靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料。有金属类、合金类、氧化物类等等。钨-钛(W-Ti)膜以及以钨-钛(W-Ti)为基的合金膜是高温合金膜,具有一系列不可替代的优良性能。钨具有高熔点、高强度和低的热膨胀系数等性能,W/ Ti 合金具有低的电阻系数、良好的热稳定性能。如各种器件都需要起到导电作用的金属布线,金属靶材,例如Al 、Cu 和Ag 等已经被广泛的应用和研究。
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高纯铜靶材的应用领域及发展趋势
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
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高纯铜靶材主要应用领域
高纯铜靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高品质装饰用品等行业。
信息存储产业:随着信息及计算机技术的不断发展,世界市场对记录介质的需求量越来越大,与之相应的记录介质用靶材市场也不断扩大,其相关产品有硬盘、磁头、光盘(CD-ROM,金属靶材供应商,CD-R,DVD-R等)、磁光相变光盘(MO,CD-RW,DVD-RAM)。
集成电路产业:在半导体应用领域,靶材是世界靶材市场的主要组成之一,主要用于电极互连线膜、阻挡层薄膜、接触薄膜、光盘掩膜、电容器电极膜、电阻薄膜等方面。
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