光氧催化设备批发

光氧催化设备科技含量高

UV光氧催化设备科技含量高：采用先进的高级氧化技术，突破单一体系的反应局限，在整个反应体系中，有两种氧化能力极强的氧化剂—O3和·OH参与反应，光氧催化设备厂家，使得脱臭效果更佳，恶臭气体矿化程度更高，白山光氧催化设备，可无害化排放，无二次污染。具有完全自主知识产权的高科技环保净化产品。

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光氧催化设备之光催化氧化技术原理

半导体光催化氧化的羟基自由基反应机理，得到大多数学者的认同。即当TiO2等半导体粒子与水接触时，半导体表面产生高密度的羟基。

由于羟基的氧化电位在半导体的价带位置以上，光氧催化设备批发，而且又是表面高密度的物种，因此光照射半导体表面产生的空穴首先被表面羟基捕获，产生强氧化性的羟基自由基：

TiO2—hv—e-+TiO2(h+)

TiO2(h+)+H2O——TiO2+H++·OH

TiO2(h+)+OH-——TiO2+·OH

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