等离子表面处理后失效时间

真空等离子表面处理设备结构：　

      真空离子清洗机：

 1.控制单元： ●控制单元主要分为半自动控制、全自动控制、 PC电脑控制、液晶触摸屏控制四种方式（包括国外进口的）

 ●控制单元又分为两个大的部分：

 A:电源部分：主要电源频率有三种，等离子金属表面活化，分别是40KHz、13.56MHz、2.45GHz，13.56MHz是需要电源匹配器的，而2.45GHz又称为微波等离子

 B :系统控制单元：分三种，按钮控制（半自动、全自动）、电脑控制、PLC控制（液晶触摸屏控制 2.真空腔体：不锈钢和石英腔体 

3.真空泵： 干泵和油泵

   真空腔体的设置具有很强的灵活性，腔内有可调节层极板插槽，根据需要每个插槽内的极板都可以设置为独立的阳极、阴极。也可以根据需要来调整极板间的距离，来达到不同的工艺效果。由于匀气腔、抽气口、以及阳极、阴极极结构独特的气流设计。等离子技术在橡塑行业的应用已非常成熟，等离子，其相关产值逐年增加，国外市场比国内市场产值高，但国内可发展空间大，应用前景诱人。

等离子清洗机的应用用途：

表面的微结构化，例如，用于提高粘合力（“微喷砂”）

蒸镀源的喷射（“溅射”）

因为离子蚀刻不发生化学作用，山东等离子表面处理设备 ，其几乎适用于所有基材（几乎没有选择性）。等离子体的蚀刻作用基本都是有离子加速度方向所决定的。其效果是强烈的各向异性。

化学等离子蚀刻

所用的工艺气体，其分子在等离子体中主要分裂为自由基。蚀刻作用主要基于这些自由基与基材的原子或分子之间的反应，以及其转化得到的气相分解产物。

一些特殊的应用用途：

氧化层的降解

去除光刻胶（“剥离”）

矩阵灰化，用于分析

蚀刻 PTFE

半导体的结构化和微结构化

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