钴靶价格

厂商 :北京石久高研金属材料有限公司

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商品详细描述

溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

   靶材的密度

为了减少陶瓷靶材中的气孔,提高薄膜的性能,一般要求溅射陶瓷靶材具有高密度。通常,钴靶厂家哪家好,靶材的密度不仅影响溅射时的沉积速率、溅射膜粒子的密度和放电现象等,还影响着溅射薄膜的电学和光学性能。靶材越密实,溅射膜粒子的空间分布浓度越低,放电现象越弱,而薄膜的性能也会越好。此外,提高陶瓷靶材的致密度和强度能使靶材更好地承受溅射过程中的热应力。因此,提高靶材的密度是制备陶瓷靶材的关键技术之一。在成型加工方法中预成型压力也是重要因素,靶材的预成形压力小,相应靶坯料的密度也小,这对靶材的烧结自然十分有利,靶材氧扩散好,相转变完全,靶材内部不易产生“夹芯”,但另一方面使靶材的机械强度降低,易发生破裂,不利于薄膜工艺使用.结合薄膜工艺、靶材应用活性和靶材加工实践考虑,一般情况下,靶材表观密度达理论密度控制在>55%~80%即可。粉末冶金法制造的靶材, 则极有可能含有一定数量的气孔。气孔的存在会导致溅射时产生不正常放电而产生杂质粒子,钴靶批发价格,另外含有气孔的靶材在搬动、运输 、安装、操作时因其密度较低,钴靶,也极易发生碎裂 。由采用真空熔炼方法制造的靶材可确保块材内部无气孔存在

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~






溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

  靶材要求:

纯度     陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大,陶瓷靶材的纯度越高,溅射薄膜的均匀性和批量产品质量的一致性越好。近年来随着微电子产业的迅速发展,硅器件布线宽度已发展到0.13μm,对成膜面积的薄膜均匀性要十分严格,其纯度必须大于4N。此外显示平面用的ITO靶材对纯度也要求十分严格,要求ITO的纯度都大于4N。磁性薄膜用陶瓷靶材的纯度也要不低于3N。靶材作为溅射中的阴极源,固体中的杂质是沉积薄膜的主要污染源,如:碱金属离子(Na+、K+)易在绝缘层(SiO)中成为可移动性离子,降低元器件性能,钴靶价格,其含量须在0.01ppm(重量)以下。

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减反射膜

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

原理

减反射膜是以光的波动性和干涉现象为基础的。二个振幅相同,波长相同的光波叠加,那么光波的振幅增强;如果二个光波原由相同,波程相差,如果这二个光波叠加,那么互相抵消了。减反射膜就是利用了这个原理,在镜片的表面镀上减反射膜,使得膜层前后表面产生的反射光互相干扰,从而抵消了反射光,达到减反射的效果。

1)振幅条件

膜层材料的折射率必须等于镜片片基材料折射率的平方根。

2)位相条件

膜层厚度应为基准光的1/4波长。d=λ/4 λ=555nm时,d=555/4=139nm

对于减反射膜层,许多眼镜片生产商采用人眼敏感度较高的光波(波长为555nm)。当镀膜的厚度过薄(〈139nm),反射光会显出浅棕黄色,如果呈蓝色则表示镀膜的厚度过厚( 〉139nm)。

镀膜反射膜层的目的是要减少光线的反射,但并不可能做到没有反射光线。镜片的表面也总会有残留的颜色,但残留颜色哪种是好的,其实并没有标准,目前主要是以个人对颜色的喜好为主,较多为绿色的色系。

我们也会发现残留颜色在镜片凸面与凹面的曲率不同也使镀膜的速度不同,因此在镜片中央部分呈绿色,而在边缘部分则为淡紫红色或其它颜色。

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