镍铬硅合金

高纯金属靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，镍铬硅合金报价，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

业内人士指出，高纯金属及其合金溅射靶材是半导体集成电路及分立器材制造主要的PVD镀膜原资料，应用于金属化技术中互连线、阻挡层、触摸、通孔、背面金属化层等薄膜的制备。跟着国内电子信息产业商场规模的敏捷扩大，靶材消耗量逐年添加，镍铬硅合金，中国逐渐变成世界上溅射靶材的很大需要区域之一。经过本次项目的建造，有研亿金高纯金属靶材研制出产的才能和技能水平将得到大幅度提高，一起具有自主知识产权的高纯金属靶材将得到进一步的开展和推广。与此一起，完成高质量靶材的产业化，将会给有研新材带来非常显着的商场效益。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

抗污膜

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，镍铬硅合金出售，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

抗污膜（顶膜）

    （1）原理

镜片表面镀有多层减反射膜后，镜片特别容易产生污渍，而污渍会破坏减反射膜的减反射效果。在显微镜下，我们可以发现减反射膜层呈孔状结构，所以油污特别容易浸润至减反射膜层。解决的方法是在减反射膜层上再镀一层具有抗油污和抗水性能的顶膜，而且这层膜必须非常薄，以使其不会改变减反射膜的光学性能。

（2）工艺

抗污膜的材料以氟化物为主，有二种加工方法，一种是浸泡法，一种是真空镀膜，而最常见的方法是真空镀膜。而最常用的方法是真空镀膜。当减反射膜层完成后，可使用蒸发工艺将氟化物镀于反射膜上。抗污膜可将多孔的减反射膜层覆盖起来，并且能够将水和油与镜片的接触面积减少，使油和水滴不易粘附于镜片表面，因此也称为防水膜。

对于有机镜片而言，理想的表面系统处理应该是包括抗磨损膜、多层减反射膜和顶膜抗污膜的复合膜。通常抗磨损膜镀层最厚，约为3－5mm，多层减反射膜的厚度约为0.3um，顶层抗污腊镀最薄，约为0.005－0.01mm。以法国依视路公司的钻晶（crizal)，镍铬硅合金批发，复合膜为例，在镜片的片基上首先镀上具有有机硅的耐磨损膜；然后采用IPC的技术，用离子轰击进行镀减反射膜前的预清洗；清洗后采用高硬度的二氧化锆（ZrO2)等材料进行多层减反射膜层的真空镀制；最后再镀上具有110的接触角度的顶膜。钻晶复合膜技术的研制成功表明了有机镜片的表面处理技术达到了一个新的高度。

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溅射靶材

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。

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