镍铬硅合金

高纯铜靶材的应用领域及发展趋势

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

高纯铜靶材的应用领域及发展趋势

      高纯铜靶材主要应用领域

高纯铜靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高品质装饰用品等行业。

信息存储产业：随着信息及计算机技术的不断发展，世界市场对记录介质的需求量越来越大，与之相应的记录介质用靶材市场也不断扩大，其相关产品有硬盘、磁头、光盘(CD-ROM，CD-R，DVD-R等)、磁光相变光盘(MO，CD-RW，DVD-RAM)。

集成电路产业：在半导体应用领域，靶材是世界靶材市场的主要组成之一，主要用于电极互连线膜、阻挡层薄膜、接触薄膜、光盘掩膜、电容器电极膜、电阻薄膜等方面。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

解决溅射过程中的微粒飞溅

溅射镀膜的过程中， 致密度较小的溅射靶受轰击时， 由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放， 造成大尺寸的靶材颗粒或微粒飞溅， 或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅。这些微粒的出现会降低薄膜品质。如在VLSI 制作工艺过程中，每150 mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。怎样解决溅射靶材在溅射过程中的微粒飞溅也是今后研究与设计靶材的发展方向之一。一般来说，镍铬硅合金价格， 粉末冶金工艺制备的溅射靶材大都存在致密度低的问题，容易造成微粒飞溅。因此，对熔融铸造法制备的靶材，可采用适当的热加工或热处理来提高其致密度；而对粉末冶金溅射靶材则应提高原料粉末纯度，镍铬硅合金厂，并采用等离子烧结、微波烧结等快速致密化技术，以降低靶材孔隙率。

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科技部发布新材料技术超高纯铝靶材项目申请

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

科技部发布新材料技能超高纯铝靶材项目请求

据科技部音讯：物理汽相堆积(PVD)是半导体芯片和TFT-LCD生产进程中最关键的技能之一，福建镍铬硅合金，PVD用溅射金属靶材是半导体芯片生产及TFT-LCD制备加工进程中最重要的原材料之一，溅射金属靶材中用量很大的是超高纯铝和超高纯洁铝合金靶材。

由此可见，研制具有自主知识产权的大尺度超高纯铝靶材的制造关键技能，镍铬硅合金供应商，开宣布满意半导体职业及TFT-LCD工业需要的超高纯铝靶材商品，关于中国有关工业的展开具有重要意义。

为公平、公平、公开地挑选项目承担单位，充分调动有关企业、科研院所及高等院校的积极性，集成全国在铝的精炼提纯、大尺度铝板形变加工及溅射金属靶材专业制备等范畴的优势研制力量展开本项意图作业，科技部发布了《国家高技能研讨展开方案(863方案)新材料技能范畴“大尺度超高纯铝靶材的制造技能”重点项目请求指南》。

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