镍铬硅合金

有研新材：近2亿元投建高纯金属靶材项目

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

中证网讯 有研新材(600206)布告称，该公司全资子公司有研亿金新资料有限公司为提添加纯金属靶材研制出产才能和技能水平，扩大8-12英寸集成电路用靶材出产才能，在研讨国际、国内高纯金属靶材商场局势和技能开展趋势，以及自身优势和开展战略的基础上，出资19，943.90万元，建造有研亿金高纯金属靶材产业化建造项目。

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PVD制程所用的靶材需要检验哪些项目

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

1.靶材的纯度，可以用化学分析法、光谱能量测定法等方法检验；

2.晶粒度：要求晶粒越细小越好。而且晶粒要尽可能均匀一致。可以用光学显微镜检验；

3.密度：原则上，靶材的密度越高越好。密度越高，晶粒间隙越小，压制紧密，镍铬硅合金厂家，靶材质量越好。可以用称量法检验；

4.组织均匀性：对于两种成份以上的合成靶，特别是相互难融的成分，还可以做金相检验，看成分、组织是否均匀一致；

5.机械性能:有些靶材，镍铬硅合金批发价格，如有色金属等可以要求一下。石墨靶，好一点的，也有该要求。检验用专门的机械性能试验机。

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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

解决溅射过程中的微粒飞溅

溅射镀膜的过程中， 致密度较小的溅射靶受轰击时， 由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放，安徽镍铬硅合金， 造成大尺寸的靶材颗粒或微粒飞溅， 或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅。这些微粒的出现会降低薄膜品质。如在VLSI 制作工艺过程中，每150 mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。怎样解决溅射靶材在溅射过程中的微粒飞溅也是今后研究与设计靶材的发展方向之一。一般来说，镍铬硅合金公司， 粉末冶金工艺制备的溅射靶材大都存在致密度低的问题，容易造成微粒飞溅。因此，对熔融铸造法制备的靶材，可采用适当的热加工或热处理来提高其致密度；而对粉末冶金溅射靶材则应提高原料粉末纯度，并采用等离子烧结、微波烧结等快速致密化技术，以降低靶材孔隙率。

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