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真空镀膜技术的一般术语及工艺

1.1真空镀膜vacuumcoating：在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。

   1.2基片substrate：膜层承受体。

   1.3试验基片testingsubstrate：在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和（或）试验的基片。

   1.4镀膜材料coatingmaterial：用来制取膜层的原材料。

   1.5蒸发材料evaporationmaterial：在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。

   1.6溅射材料sputteringmaterial：有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。

   1.7膜层材料(膜层材质)filmmaterial：组成膜层的材料。

   1.8蒸发速率evaporationrate：在给定时间间隔内，远红外干燥箱价格，蒸发出来的材料量，远红外干燥箱哪家好，除以该时间间隔

   1.9溅射速率sputteringrate：在给定时间间隔内，溅射出来的材料量，除以该时间间隔。

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