厂商 :北京石久高研金属材料有限公司
北京 北京- 主营产品:
金属靶材相对密度是以什么标准换算的
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
比重(specific gravity)是相对密度(relative density)的旧称。相对密度定义为:某物质的密度与参考物质的密度之比。金属靶材通常是合金靶材才会用到相对密度,镍铬硅合金批发,相对密度高代表含量高。 实际值除以理论值就是了。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~
真空镀膜靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶中毒的影响因素
影响靶中毒的因素主要是反应气体和溅射气体的比例,反应气体过量就会导致靶中毒。反应溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟道区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重新暴露金属表面此消彼长的过程。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率,镍铬硅合金出售,化合物覆盖面积增加。在一定功率的情况下,参与化合物生成的反应气体量增加,化合物生成率增加。如果反应气体量增加过度,安徽镍铬硅合金,化合物覆盖面积增加,如果不能及时调整反应气体流量,化合物覆盖面积增加的速率得不到抑制,溅射沟道将进一步被化合物覆盖,当溅射靶被化合物全部覆盖的时候,靶完全中毒,镍铬硅合金厂,在靶面上沉积一层化合金属膜。使其很难被再次反应。
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溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶材选择规程
分类:1.薄膜应用分类[1]:半导体功能(HfO2)、磁记录、巨磁电阻(稀土合金或氧化物类)、显示技术(ITO)、超导(Y2BaCu3O7);2.材料组成:金属(合金)、氧化物类(Al2O3、SiO、SiO2、TiO2、Ti2O3、ZrO2等)、氟化物类(MgF2、BaF2、YF3、Na3AlF6等)、其它化合物类(ZnS、ZnSe、PbTe等)。
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