光氧催化设备价格

光氧催化设备之光催化氧化技术原理

半导体光催化氧化的羟基自由基反应机理，得到大多数学者的认同。即当TiO2等半导体粒子与水接触时，半导体表面产生高密度的羟基。

由于羟基的氧化电位在半导体的价带位置以上，而且又是表面高密度的物种，因此光照射半导体表面产生的空穴首先被表面羟基捕获，玉林光氧催化设备，产生强氧化性的羟基自由基：

TiO2—hv—e-+TiO2(h+)

TiO2(h+)+H2O——TiO2+H++·OH

TiO2(h+)+OH-——TiO2+·OH

光氧催化设备重要行业中有哪些

传统上一般处理空气污染物质时，常使用活性碳与沸石等具吸附力物质来集中污染物，但吸附剂不容易再生，光氧催化设备价格，须不断更新，含高浓度污染物吸附剂更需固定化后掩埋或高温燃烧处理，会产生二次公害与浪费资源等问题。此外，有部分种类的气相污染物，光氧催化设备厂家，也不易被吸附剂集中吸附，因此，传统处理方式有时会有其限制与困难之处

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