镍铬硅合金

溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，镍铬硅合金厂， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材原理： 以pld为例，因素主要有：靶材与基片的晶格匹配程度 　镀膜氛围（低压气体氛围） 　基片温度 　激光器功率 　脉冲频率 　溅射时间 　对于不同的溅射材料和基片，尽量参数需要实验确定，是各不相同的，镀膜设备的好坏主要在于能否准确控温，能否保证好的真空度，能否保证好的真空腔清洁度。

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溅射靶材的主要应用 

     北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      溅射靶材就是目标材料。用于高能激光中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。用于物理镀膜中的溅镀，主要有金属靶材和陶瓷靶材

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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

靶材的成分与结构均匀性

为了保证溅射薄膜均匀，尤其在复杂的大面积镀膜应用方面，必须做到靶材成分与结构均匀性好，这也是考察陶瓷靶材质量的重要指标之一。例如，镍铬硅合金公司，为了保证质量，要求ITO靶中In2O3，镍铬硅合金批发价格， SnO2组成均匀，广西镍铬硅合金，都为93：7或91：9(分子比)。特别是溅射靶材的微观结构均匀性对溅射时的成膜速率、沉积薄膜的质量及厚度分布等均有很大的影响。根据有关研究表明，细晶粒（<100μm）结构溅射靶材的成膜速率大于粗晶粒靶。因此，当陶瓷靶材在靶面尺寸上的晶粒分布不均匀时，将造成沉积薄膜厚度分布的不均匀现象。

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