氧化镍

金属靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材使用指南及注意事项

  溅射准备

保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的。任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物，直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性。短路或靶材起弧，氧化镍多少钱，成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射枪和靶材引起的。  为保持镀膜的成分特性，溅射气体(氩气或氧气)必须清洁并干燥，溅镀腔内装入基材后便需将空气抽出，达到工艺所要求的真空度。  暗区屏蔽罩，腔体壁及邻近表面也需要保持洁净。在清洗真空腔体时我们建议采用玻璃球抛丸法处理有污垢的部件同时用压缩空气清除腔体四周前期溅射剩余物，再用氧化铝浸渍过的沙纸轻轻的对表面进行抛光。纱纸抛光后， 再用酒精去离子水清洗，同时建议使用工业吸尘器进行辅助清洁。  高展金属生产的靶材采用真空密封塑料袋包装， 内置防潮剂。使用靶材时请不要用手直接接触靶材。

注意：使用靶材时请配带干净而且不会起绒的保护手套，氧化镍报价，一定要避免用手直接接触靶材

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PVD制程所用的靶材需要检验哪些项目

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

1.靶材的纯度，氧化镍，可以用化学分析法、光谱能量测定法等方法检验；

2.晶粒度：要求晶粒越细小越好。而且晶粒要尽可能均匀一致。可以用光学显微镜检验；

3.密度：原则上，靶材的密度越高越好。密度越高，晶粒间隙越小，压制紧密，靶材质量越好。可以用称量法检验；

4.组织均匀性：对于两种成份以上的合成靶，特别是相互难融的成分，还可以做金相检验，看成分、组织是否均匀一致；

5.机械性能:有些靶材，如有色金属等可以要求一下。石墨靶，好一点的，氧化镍厂，也有该要求。检验用专门的机械性能试验机。

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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

高纯铜靶材加工的发展趋势

目前，IC行业所需高品质超高纯金属铜靶材几乎全部为国外几个大型跨国公司所垄断。国内IC行业所需的超纯铜靶材基本全部需要进口，不仅价格昂贵，而且进口手续繁杂。国内靶材生产企业基本属于质量和技术门槛较低、采用传统加工方法、依靠价格取胜的低档次溅射靶材生产者，或获利有限的代工型加工厂。

目前，国外主要半导体溅射靶材供货商已投入到超高纯度(6N)铜溅射靶材的开发，同时已经将试生产的铜溅射靶材送交溅镀设备供货商进行相关测试及验证，部分公司产品已上线生产。

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