氧化铋

溅射靶材使用

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

 

      为保持镀膜的成分特性，溅射气体(氩气或氧气)必须清洁并干燥，氧化铋多少钱，溅镀腔内装入基材后便需将空气抽出，达到工艺所要求的真空度。  暗区屏蔽罩，腔体壁及邻近表面也需要保持洁净。纱纸抛光后， 再用酒精，去离子水清洗，同时建议使用工业吸尘器进行溅射靶材清洁。

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高纯铪靶材

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铪，金属Hf，氧化铋价格，原子序数72，原子量178.49，熔点高，与锆共存。是一种带光泽的银灰色的过渡金属。有金属光泽;金属铪有两种变体:α铪为六方密堆积变体(1750℃)，其转变温度比锆高。金属铪在高温下有同素异形变体存在。具有塑性的金属，当有杂质存在时质变硬而脆。空气中稳定，灼烧时仅在表面上发暗。细丝可用火柴的火焰点燃。性质似锆。不和水、稀酸或强碱作用，但易溶解在王水中。在化合物中主要呈+4价。铪合金(Ta4HfC5)是已知熔点很高的物质(约4215℃)。金属铪有较高的中子吸收截面，可用作反应堆的控制材料。是理想的防中子辐射材料，在军事上反应堆中用作启动和关闭反应堆运转的控制棒。铪是重要的合金元素，用于制作硬质合金刀具、高性能飞机和空间动力系统的高温合金，铪也用于真空技术中。铪无单独矿物，只是锆生产过程中的副产品，生产锆的工艺均适用于铪。

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溅射靶材

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溅射靶材的发展

各种类型的溅射靶材薄膜材料在半导体集成 电路 (VLSI) 、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等 方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代 以来，溅射靶材及溅射技术的同步发展，极大地满足了各种新 型电子元器件发展的需求。例如，在半导体集成电路制造过程中，以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝 膜布线：在平面显示器产业中，各种显示技术 (如LCD、PDP 、OLED及FED等)的同步发展，有的已 经用于电脑及计算机的显示器制造；在信息存储产业中，磁性存储器的存储容量不断增加，新的磁光记录材料不断推陈出新 这些都对所需溅射靶材的质量提 出了越来越高的要求，需求数量也逐年增加。

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