厂商 :北京石久高研金属材料有限公司
北京 北京- 主营产品:
溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,氧化铬,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶中毒现象
(1)正离子堆积:靶中毒时,靶面形成一层绝缘膜,氧化铬价格,正离子到达阴极靶面时由于绝缘层的阻挡,氧化铬厂家,不能直接进入阴极靶面,氧化铬报价,而是堆积在靶面上,容易产生冷场致弧光放电---打弧,使阴极溅射无法进行下去。(2)阳极消失:靶中毒时,接地的真空室壁上也沉积了绝缘膜,到达阳极的电子无法进入阳极,形成阳极消失现象。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~
溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
磁控溅射靶材原理:
磁控溅射一般分为二种:直流溅射和射频溅射,其中直流溅射设备原理简单,在溅射金属时,其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛,除可溅射导电材料外,也可溅射非导电的材料,同时还可进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射,如今,常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。
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北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶材选择规程
分类:1.薄膜应用分类[1]:半导体功能(HfO2)、磁记录、巨磁电阻(稀土合金或氧化物类)、显示技术(ITO)、超导(Y2BaCu3O7);2.材料组成:金属(合金)、氧化物类(Al2O3、SiO、SiO2、TiO2、Ti2O3、ZrO2等)、氟化物类(MgF2、BaF2、YF3、Na3AlF6等)、其它化合物类(ZnS、ZnSe、PbTe等)。
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