氧化镁厂

PVD制程所用的靶材需要检验哪些项目

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

1.靶材的纯度，可以用化学分析法、光谱能量测定法等方法检验；

2.晶粒度：要求晶粒越细小越好。而且晶粒要尽可能均匀一致。可以用光学显微镜检验；

3.密度：原则上，靶材的密度越高越好。密度越高，晶粒间隙越小，压制紧密，靶材质量越好。可以用称量法检验；

4.组织均匀性：对于两种成份以上的合成靶，特别是相互难融的成分，还可以做金相检验，氧化镁，看成分、组织是否均匀一致；

5.机械性能:有些靶材，氧化镁厂，如有色金属等可以要求一下。石墨靶，好一点的，也有该要求。检验用专门的机械性能试验机。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

溅射靶材

 北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。

由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反应气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子，通常是放热反应，反应生成热必须有传导出去的途径，否则，该化学反应无法继续进行。在真空条件下气体之间不可能进行热传导，所以，化学反应必须在一个固体表面进行。反应溅射生成物在靶表面、基片表面、和其他结构表面进行。

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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，氧化镁出售，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

   靶材的密度

为了减少陶瓷靶材中的气孔，提高薄膜的性能，一般要求溅射陶瓷靶材具有高密度。通常，氧化镁供应商，靶材的密度不仅影响溅射时的沉积速率、溅射膜粒子的密度和放电现象等，还影响着溅射薄膜的电学和光学性能。靶材越密实，溅射膜粒子的空间分布浓度越低，放电现象越弱，而薄膜的性能也会越好。此外，提高陶瓷靶材的致密度和强度能使靶材更好地承受溅射过程中的热应力。因此，提高靶材的密度是制备陶瓷靶材的关键技术之一。在成型加工方法中预成型压力也是重要因素，靶材的预成形压力小，相应靶坯料的密度也小，这对靶材的烧结自然十分有利，靶材氧扩散好，相转变完全，靶材内部不易产生“夹芯”，但另一方面使靶材的机械强度降低，易发生破裂，不利于薄膜工艺使用.结合薄膜工艺、靶材应用活性和靶材加工实践考虑，一般情况下，靶材表观密度达理论密度控制在>55％~80%即可。粉末冶金法制造的靶材， 则极有可能含有一定数量的气孔。气孔的存在会导致溅射时产生不正常放电而产生杂质粒子，另外含有气孔的靶材在搬动、运输 、安装、操作时因其密度较低，也极易发生碎裂 。由采用真空熔炼方法制造的靶材可确保块材内部无气孔存在

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