三氧化二铝价格

厂商 :北京石久高研金属材料有限公司

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商品详细描述

溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

   靶材的密度

为了减少陶瓷靶材中的气孔,提高薄膜的性能,一般要求溅射陶瓷靶材具有高密度。通常,靶材的密度不仅影响溅射时的沉积速率、溅射膜粒子的密度和放电现象等,还影响着溅射薄膜的电学和光学性能。靶材越密实,溅射膜粒子的空间分布浓度越低,放电现象越弱,而薄膜的性能也会越好。此外,提高陶瓷靶材的致密度和强度能使靶材更好地承受溅射过程中的热应力。因此,提高靶材的密度是制备陶瓷靶材的关键技术之一。在成型加工方法中预成型压力也是重要因素,靶材的预成形压力小,三氧化二铝厂家,相应靶坯料的密度也小,这对靶材的烧结自然十分有利,靶材氧扩散好,相转变完全,靶材内部不易产生“夹芯”,但另一方面使靶材的机械强度降低,易发生破裂,不利于薄膜工艺使用.结合薄膜工艺、靶材应用活性和靶材加工实践考虑,一般情况下,靶材表观密度达理论密度控制在>55%~80%即可。粉末冶金法制造的靶材, 则极有可能含有一定数量的气孔。气孔的存在会导致溅射时产生不正常放电而产生杂质粒子,另外含有气孔的靶材在搬动、运输 、安装、操作时因其密度较低,也极易发生碎裂 。由采用真空熔炼方法制造的靶材可确保块材内部无气孔存在

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~






高纯铪靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

铪,金属Hf,原子序数72, 三氧化二铝报价,原子量178.49,熔点高,与锆共存。是一种带光泽的银灰色的过渡金属。有金属光泽;金属铪有两种变体:α铪为六方密堆积变体(1750℃),其转变温度比锆高。金属铪在高温下有同素异形变体存在。具有塑性的金属,当有杂质存在时质变硬而脆。空气中稳定,灼烧时仅在表面上发暗。细丝可用火柴的火焰点燃。性质似锆。不和水、稀酸或强碱作用,三氧化二铝,但易溶解在王水中。在化合物中主要呈+4价。铪合金(Ta4HfC5)是已知熔点很高的物质(约4215℃)。金属铪有较高的中子吸收截面,可用作反应堆的控制材料。是理想的防中子辐射材料,在军事上反应堆中用作启动和关闭反应堆运转的控制棒。铪是重要的合金元素,用于制作硬质合金刀具、高性能飞机和空间动力系统的高温合金,铪也用于真空技术中。铪无单独矿物,只是锆生产过程中的副产品,生产锆的工艺均适用于铪。

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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

铝靶材的生产方法:1、铝的生产和提纯[2]  :铝是从铝土矿中提取Al2O3,再在熔融冰晶石中电解而得到的,纯度一般在99%以上,但这样纯度的铝根本无法作为生产铝靶材的原材料,铝靶材对铝材的第1个要求也是最重要的要求就是纯度要高,铝靶材所用的高纯铝是再经过偏析法、三层电解法或联合区域熔炼法生产而成的,价格要比工业纯铝99.7贵很多,目前国内高纯度在99.9999%(6N)左右。2、铝靶材的变形处理:有了高纯度铝锭作为原材料,对原材料进行锻造、轧制、热处理等,三氧化二铝价格,使铝锭内晶粒变细小、致密度增加以满足溅射所需铝靶材的要求。3、对变形处理后的高纯度铝材料进行机械加工,铝靶材加工要求精度高、表面质量高,加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就可以了,铝靶材与镀膜机多以螺纹相连接。

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