厂商 :北京石久高研金属材料有限公司
北京 北京- 主营产品:
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溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶材的成分与结构均匀性
为了保证溅射薄膜均匀,尤其在复杂的大面积镀膜应用方面,必须做到靶材成分与结构均匀性好,铁钴硼合金,这也是考察陶瓷靶材质量的重要指标之一。例如,为了保证质量,要求ITO靶中In2O3,铁钴硼合金价格, SnO2组成均匀,都为93:7或91:9(分子比)。特别是溅射靶材的微观结构均匀性对溅射时的成膜速率、沉积薄膜的质量及厚度分布等均有很大的影响。根据有关研究表明,细晶粒(<100μm)结构溅射靶材的成膜速率大于粗晶粒靶。因此,当陶瓷靶材在靶面尺寸上的晶粒分布不均匀时,将造成沉积薄膜厚度分布的不均匀现象。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~
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北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
高纯铜靶材加工的发展趋势
目前,IC行业所需高品质超高纯金属铜靶材几乎全部为国外几个大型跨国公司所垄断。国内IC行业所需的超纯铜靶材基本全部需要进口,不仅价格昂贵,铁钴硼合金厂,而且进口手续繁杂。国内靶材生产企业基本属于质量和技术门槛较低、采用传统加工方法、依靠价格取胜的低档次溅射靶材生产者,或获利有限的代工型加工厂。
目前,国外主要半导体溅射靶材供货商已投入到超高纯度(6N)铜溅射靶材的开发,铁钴硼合金供应商,同时已经将试生产的铜溅射靶材送交溅镀设备供货商进行相关测试及验证,部分公司产品已上线生产。
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溅射靶材使用指南及注意事项
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的。任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物,直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性。短路或靶材起弧,成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射枪和靶材引起的。
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