全自动光敏印章机

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光敏印章机——印达印章，无忧购买光敏印章机的制作原理光敏印章是20世纪90年代初日本发明的。它是由一种特殊的化工合成材料,通过专用设备瞬间发出强光辐射,使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。专用的光敏材料(光敏平面橡胶)是一种超微泡材料,其表面的微孔孔径非常小,平均孔径小于30um。光敏材料在受到强光照射的时候,可以吸收光能并转换成热能。曝光时,光敏材料表面见光部分瞬间吸收大量的光能后,温度迅速上升并达到熔点。闪光结束后,表面熔体的温度迅速降低,形成一定厚度和强度的薄膜,这层薄膜同时起到封孔闭孔的作用,并隔绝印油的渗透。利用光敏材料的特性,光敏印章机将章稿打印在具有透光特性的硫酸纸或激光胶片上,将其覆盖在光敏材料上后放在曝光机内曝光。光敏印章机的精度比采用激光雕刻的印章或其它技术方式制作的印章的精度高出许多,是目前制作精准度高的一种印章

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